[实用新型]用于薄壁件熔模铸造的缓存结构

权利要求书

1.用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，包括型壳(1)、浇口杯(2)以及缓存口(3)，所述浇口杯(2)通过浇道与型壳(1)的内腔连通，所述缓存口(3)设置在型壳(1)或浇口杯(2)上且与型壳(1)或浇口杯(2)连通。

2.如权利要求1所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述缓存口(3)至少有一个。

3.如权利要求1或2所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述缓存口(3)有4个且均设置在型壳(1)的侧壁上。

4.如权利要求3所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述缓存口(3)包括排蜡棒(31)和缓存口本体(32)，所述排蜡棒(31)一体固定在缓存口本体(32)的上端面。

5.如权利要求4所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述缓存口本体(32)的壁厚为3～4㎜，缓存口本体(32)上部为倒立的空心圆台，下部为圆柱体，所述空心圆台的高度为25～35㎜且空心圆台小圆直径为30～40㎜，大圆直径为60～70㎜，所述圆柱体底面圆的直径与空心圆台小圆直径相等且高度为空心圆台高度的1/8～1/6。

6.如权利要求4所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述排蜡棒(31)的高度为8～10㎜且形状为圆柱体，所述排蜡棒(31)的底面直径为空心圆台大圆直径的1/10。

7.如权利要求1所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述浇口杯(2)的壁厚为4～6㎜，高度为70～100㎜的倒立空心圆台，圆台的大圆直径取值范围为80～100㎜，小圆直径取值范围为40～50㎜。

8.如权利要求7所述的用于薄壁件熔模铸造的缓存结构，其特征在于，所述浇口杯(2)的上端面设置有笼圈，所述笼圈的纵向截面是边长为8～10㎜的正方形。