[实用新型]一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置

权利要求书

1.一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：从下至上依次设置有安装支架（4）、旋转装置（2）、加热器支撑圆盘（1）、研磨盘（3），晶圆加热器（5）设置在加热器支撑圆盘（1）和研磨盘（3）之间；研磨盘（3）包括研磨盘主体（3-1），研磨盘主体（3-1）底部设置有研磨块（3-5）、调节支撑圆柱（3-4），研磨盘主体（3-1）通过调节螺栓（3-3）与研磨块（3-5）相连接固定，调节螺栓（3-3）的上端设置有数显深度测量指示表（3-2）；所述的安装支架（4）包括安装支撑柱（4-3），安装支撑柱（4-3）上端设置有安装平板（4-2），安装支撑柱（4-3）下端设置有高度调节块（4-4），安装平板（4-2）上设置有安装主体（4-1），安装主体（4-1）内部设置有台阶孔，装有旋转电机（2-2）的固定座（2-1）下部与台阶孔相配合固定，旋转电机（2-2）的上表面设置有连接圆盘（2-3），连接圆盘（2-3）上端设置有支撑圆盘本体（1-1），支撑圆盘本体（1-1）上端通过螺丝（1-3）固定有圆环（1-2）；所述的调节支撑圆柱（3-4）与圆环（1-2）相连接。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：所述的高度调节块（4-4）与安装支撑柱（4-3）之间设置为螺纹连接。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：所述的调节支撑圆柱（3-4）与研磨盘主体（3-1）之间、调节支撑圆柱（3-4）与圆环（1-2）之间均设置为螺纹连接。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：所述的支撑圆盘本体（1-1）的材质采用铝合金。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：所述的圆环（1-2）的材质采用PTFE。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体CVD晶圆加热器用表面修磨装置，其特征在于：所述的研磨块（3-5）的长度与晶圆加热器（5）的修磨面半径相等。