[实用新型]离子注入机、聚焦装置以及石墨防护环

说明书

本实用新型提出了离子注入机、聚焦装置以及石墨防护环。该石墨防护环包括：多个石墨块，其中，多个所述石墨块拼接成环形。石墨防护环安装在聚焦装置中用于阻挡部分离子束，由于离子束对石墨防护环各处的照射通常是不均匀的，石墨防护环累计照射量最大处通常会变得最薄，当此处的厚度薄到需要更换石墨防护环时只需要将该处所在的石墨块进行更换即可，不必将整块石墨防护环都进行更换，由此能节约大量的石墨材料，降低了对石墨材料的消耗。

技术领域

本实用新型总体来说涉及一种离子注入防护技术，具体而言，涉及离子注入机、聚焦装置以及石墨防护环。

背景技术

离子注入机是一种高压小型加速器。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到离子束流，用于对半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜。

离子注入机中包括聚焦装置。该聚焦装置可以是静电四极透镜(electrostaticquadrupole lens)。聚焦装置用于对离子束进行聚焦，使得离子束被约束成直径较小的线束。在聚焦装置上通常安装有石墨板，石墨板安装在离子束经过的路径附近，用于阻挡多余的离子，以避免这些离子直接打在聚焦装置的金属壁面上而造成腔室内金属污染。

当多余的离子直接打在石墨板上时，石墨板会慢慢地被打薄，石墨板最薄处的厚度小于阈值时则需要进行更换，以免石墨板最薄处的厚度小于阈值而导致腔室内金属污染。石墨板实际上是离子注入机的一种耗材，如何降低石墨板的消耗来节省成本是亟待解决的问题。

在所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本实用新型的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本实用新型的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种用于离子注入机的石墨防护环，其包括：多个石墨块，其中，多个所述石墨块拼接成环形。

根据本实用新型的一个实施例，所述多个石墨块中至少具有第一石墨块和第二石墨块；

所述第一石墨块包括第一直条部以及分别从第一直条部两端向同一方向伸出的两个第一伸出部；

所述第二石墨块包括第二直条部以及分别从第二直条部的两端向同一方向伸出的两个第二伸出部；

其中，两个第一伸出部能分别与两个第二伸出部相互对齐且两个第一伸出部的端部能分别与两个第二伸出部的端部相互连接。

根据本实用新型的一个实施例，所述第一伸出部的端部设置有第一连接部，所述第一连接部上设置有第一通孔；

所述第二伸出部的端部设置有第二连接部，所述第二连接部上设置有第二通孔；

在所述第一连接部与所述第二连接部重叠时，所述第一通孔和所述第二通孔能相互对齐以便于通过螺钉或螺栓进行连接。

根据本实用新型的一个实施例，所述第一伸出部包括第一侧面以及与所述第一侧面相对的第二侧面；

所述第二伸出部包括与所述第一侧面平齐的第三侧面以及与所述第二侧面平齐的第四侧面；

所述第一连接部的一侧面与所述第一侧面平齐，所述第二连接部的一侧面与所述第四侧面平齐；

其中，所述第一连接部和所述第二连接部的厚度之和等于所述第一伸出部的厚度。

根据本实用新型的一个实施例，所述第一连接部的长度等于所述第二连接部的长度。