[实用新型]离子注入机、聚焦装置以及石墨防护环

权利要求书

1.一种用于离子注入机的石墨防护环，其特征在于，包括：多个石墨块，其中，多个所述石墨块拼接成环形。

2.如权利要求1所述的石墨防护环，其特征在于，所述多个石墨块中至少具有第一石墨块和第二石墨块；

所述第一石墨块包括第一直条部以及分别从第一直条部两端向同一方向伸出的两个第一伸出部；

所述第二石墨块包括第二直条部以及分别从第二直条部的两端向同一方向伸出的两个第二伸出部；

其中，两个第一伸出部能分别与两个第二伸出部相互对齐且两个第一伸出部的端部能分别与两个第二伸出部的端部相互连接。

3.如权利要求2所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一伸出部的端部设置有第一连接部，所述第一连接部上设置有第一通孔；

所述第二伸出部的端部设置有第二连接部，所述第二连接部上设置有第二通孔；

在所述第一连接部与所述第二连接部重叠时，所述第一通孔和所述第二通孔能相互对齐以便于通过螺钉或螺栓进行连接。

4.如权利要求3所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一伸出部包括第一侧面以及与所述第一侧面相对的第二侧面；

所述第二伸出部包括与所述第一侧面平齐的第三侧面以及与所述第二侧面平齐的第四侧面；

所述第一连接部的一侧面与所述第一侧面平齐，所述第二连接部的一侧面与所述第四侧面平齐；

其中，所述第一连接部和所述第二连接部的厚度之和等于所述第一伸出部的厚度。

5.如权利要求4所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一连接部的长度等于所述第二连接部的长度。

6.如权利要求2所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一石墨块的质量大于所述第二石墨块的质量；

所述第二石墨块设置于接收离子束能量较多的区域，所述第一石墨块设置于接收离子束能量较少的区域。

7.如权利要求6所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一石墨块的质量大于或等于两倍所述第二石墨块的质量。

8.如权利要求3所述的石墨防护环，其特征在于，所述第一直条部背离第一伸出部的一侧还设置有多个第三通孔；

所述第二直条部背离第二伸出部的一侧还设置有多个第四通孔。

9.一种聚焦装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的石墨防护环。

10.一种离子注入机，其特征在于，包括如权利要求9所述的聚焦装置。