[实用新型]一种近空间升华设备有效
申请号: | 201921520056.4 | 申请日: | 2019-09-12 |
公开(公告)号: | CN211611685U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 钱进;韩晓;张晗 | 申请(专利权)人: | 沈阳奇汇真空技术有限公司 |
主分类号: | B01D7/00 | 分类号: | B01D7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110000 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 空间 升华 设备 | ||
本实用新型公开了一种近空间升华设备,包括工作台,工作台的上表面装配有支撑板,支撑板的下表面滑动装配有移动支撑架,支撑板的上表面装配有箱体,箱体内装配石英管,石英管的内腔装配有基片和源槽,支撑板的上表面滑动装配有移动板,移动板的上表面和箱体的内腔均装配有加热装置,石英管的左右表面均装配有冷却装置,冷却装置装配在石英管的左右两端,本实用新型采用石英管真空腔体,腔体为圆筒型也可以是矩形,腔体内安装石墨加热的基片和源槽,加热器为加热灯组,加热灯组安装在真空室外,透过石英管加热,基片上安装有各种热偶,一套基片与源槽是一个工位,可以左右移动下端加热灯组的位置,来变换为单工位,双工位,三工位近空间升华设备。
技术领域
本实用新型涉及近空间升华技术领域,具体为一种近空间升华设备。
背景技术
现有的近空间升华设备,多采用真空室内部加热方式,电阻加热方式。不适合于用在硒,硒化锑,碲化镉太阳能电池的薄膜制备上,现在市面上的近空间设备,在沉积过程中,由于基片和源之间间距很小,基片与源之间的温差很难达到100℃,而且升温速率很慢,加热的均匀性不好。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种近空间升华设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种近空间升华设备,包括工作台,所述工作台的上表面装配有支撑板,所述支撑板的下表面滑动装配有移动支撑架,所述支撑板的上表面装配有箱体,所述箱体内装配石英管,且石英管的内腔装配有基片和源槽,所述支撑板的上表面滑动装配有移动板,所述移动板的上表面和箱体的内腔均装配有加热装置,所述石英管的左右表面均装配有冷却装置,所述冷却装置装配在石英管的左右两端。
优选的,所述基片上装配有热偶。
优选的,所述加热装置包括加热灯组,所述加热灯组装配在箱体内,且组装配在石英管的外侧。
优选的,所述移动支撑架包括滑动架,所述滑动架的上表面装配有挡板,所述挡板的内侧表面装配有支撑架,且石英管装配在支撑架的上表面。
优选的,所述冷却装置包括水冷腔体,所述水冷腔体装配在支撑架的上表面,且两个所述水冷腔体的内腔表面均与石英管的外表面贴合,两个所述水冷腔体通过水管相连接。
优选的,所述水冷所述水管的进水端装配有循环泵,且循环泵装配在工作台的内腔,所述水冷腔体的下表面均装配有出水管,所述工作台的内腔装配有连接头,所述连接头的进水端与出水管连接,且连接头的出水端与循环泵相连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:为真空近空间沉积镀膜提供了一种全新的方式,这种方式可以节省大量的沉积镀膜时间成本,大大延长加热器的寿命,提高源与基片之间的温差,提高源的基片的加热速度。
附图说明
图1为本实用新型主视结构示意图。
图2为本实用新型俯视结构示意图。
图3为本实用新型左视结构示意图。
图4为本实用新型基片和源槽结构示意图。
图中:1、工作台,11、连接头,2、支撑板,3、移动支撑架,31、滑动架,31、挡板,33、支撑架,4、箱体,5、石英管,51、基片,52、源槽,6、自动板,7、加热装置,71、加热灯组,8、冷却装置,81、水冷腔体,82、水管,83、循环泵,84、出水管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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