[实用新型]一种用于薄膜测试的双工位支架

权利要求书

1.一种用于薄膜测试的双工位支架，包括支架本体(1)，其特征在于：所述的支架本体(1)包括底座(101)，支架本体(1)顶面设置有T型支架(102)，T型支架(102)的横杆两端为接口端(104)，两个接口端(104)上均各自通过升降装置与纳米压痕仪本体(2)连接；

底座(101)顶面两端分别设置有工作台(103)，两个纳米压痕仪本体(2)的压头分别与靠近其一侧工作台(103)的顶面中心对应布置；

升降装置包括立柱(106)。

2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：任意一个所述的接口端(104)上均设置有第一连接板；立柱(106)为L型结构，任意一个接口端(104)上的立柱(106)横杆均朝向T型支架(102)的横杆中心，任意一个立柱(106)的横杆中部外圈设置有第二连接板。

3.根据权利要求2所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：所述的第一连接板与第二连接板通过螺栓连接。

4.根据权利要求2所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：所述的T型支架(102)的横杆采用矩形管，矩形管内设置有对称布置的C型胶垫(105)，C型胶垫(105)的开口均朝向T型支架(102)的横杆中心，任意一个立柱(106)的横杆均为十字形结构且安装在两个C型胶垫(105)之间。

5.根据权利要求2所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：所述的T型支架(102)设置在底座(101)的中部。

6.根据权利要求1所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：任意一个所述的立柱(106)竖杆上均设置有竖置的燕尾槽，燕尾槽均位于远离T型支架(102)中心的端面上；

两个纳米压痕仪本体(2)分别与靠近其一侧立柱(106)燕尾槽的连接处设置有燕尾滑块(201)，燕尾滑块(201)上靠近立柱(106)的端面上设置有长方形沉槽，长方形沉槽内从上到下依次设置有顶板、中间板、底板，其中顶板上设置有通孔，中间板上设置有螺纹孔，底板上设置有沉孔。

7.根据权利要求6所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：所述的通孔、螺纹孔、沉孔在同一条垂直线上。

8.根据权利要求6所述的一种用于薄膜测试的双工位支架，其特征在于：任意一个所述的立柱(106)竖杆顶部设置有长方形封板，长方形封板的顶面设置有轴承座(108)，轴承座(108)内设置有螺杆(107)，螺杆(107)的顶部设置有手轮(109)，螺杆(107)的下部依次穿过长方形封板、燕尾滑块(201)的顶板、燕尾滑块(201)的中间板、最后安装在燕尾滑块(201)底板沉孔内的含油轴套内。