[实用新型]一种低电抗偏差的三相电抗器有效

专利信息
申请号: 201921511163.0 申请日: 2019-09-11
公开(公告)号: CN210606937U 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 朱煜;施洋 申请(专利权)人: 上海克拉电子有限公司
主分类号: H01F27/34 分类号: H01F27/34;H01F27/26;H01F27/28
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 应小波
地址: 201601 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电抗 偏差 三相
【说明书】:

本实用新型涉及一种低电抗偏差的三相电抗器,包括上轭部、下轭部和安装在所述上轭部和下轭部之间的A相芯柱(4)、B相芯柱(5)、C相芯柱(6)以及分别绕制在A相芯柱(4)、B相芯柱(5)、C相芯柱(6)上的A相线圈(1)、B相线圈(2)、C相线圈(3),所述的上轭部和下轭部内均设有气隙板(11)。与现有技术相比,本实用新型具有电抗偏差小、不会衍生出尺寸问题、制造工艺简单,成本低等优点。

技术领域

本实用新型涉及三相电抗器技术领域,尤其是涉及一种低电抗偏差的三相电抗器。

背景技术

传统的电抗器采用三相线圈、铁心芯柱一致的平面式结构,这种结构三项铁芯柱界面、气隙及柱长度相同,制造工艺简单,但由于三相磁路不对称,存在三相电感不平衡,从而引起设备输出容量降低,谐波增加、电能损耗提高,甚至影响系统的正常工作。市场上有将中间线圈匝数减少的电抗器在使用,但相对于匝数增减一匝电感变化较大、客户要求三相电感尽可能一致等三相平衡度要求较高的场合,这种结构并不能满足要求。另外由于中间相匝数较少,使得三相芯柱磁密不一样,电抗器饱和特性较差,从某种程度上说会导致成本增加、噪音水平提高,限制了这种结构的使用。

三相电抗器每相电感由自感Ls和互感Lo组成,而自感等于主磁通产生的主电感Lm与漏磁通产生的漏磁感Lδ之和。当线圈及其芯柱一样时,三相漏电感相同,而主电感Lm由下式得到:

其中,W是线圈的匝数,Sm是芯柱的截面积,nδ为该相的气隙总长度,lg是该相磁路中磁性元件部分的平均磁路长度,μ是铁心的相对磁导率。由公式就可以看出,简单的增减各相的线圈匝数,很难将三相的电感偏差调零。

从上面的分析可知,影响电感的主要因素是线圈匝数及气隙,由于匝数以平方的结果影响感值,因此调节匝数对电感的不平衡度影响较大,适当的调节中间相与边柱两相的气隙才能有效的平衡三相电感,弥补三相线圈互感不同造成的偏差。此外这种结构由于三相线圈的匝数及结构相同,漏电感及芯柱磁密相同,可以合理设计,最大限度地节省铁心及线圈等主材,在有效降低三相不平衡度的同时,节省材料降低成本。

中国实用新型专利公开号CN205039037U公开了一种三相三柱平衡电抗器,包括上、下铁轭和安装在所述上、下铁轭之间的A相芯柱、B相芯柱、C相芯柱以及分别绕制在所述A相芯柱、B相芯柱、C相芯柱上的A相线圈、B相线圈、C相线圈,所述A相芯柱和C相芯柱高度相等,B相芯柱高度为A相芯柱和C相芯柱高度的90%,B相芯柱与上铁轭之间设有气隙,该实用新型通过改变B相气隙厚度来平衡三相电感,但在改变气隙厚度时必须要改变B相芯柱的高度,衍生出了尺寸问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种低电抗偏差的三相电抗器。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现:

一种低电抗偏差的三相电抗器,包括上轭部、下轭部和安装在所述上轭部和下轭部之间的A相芯柱、B相芯柱、C相芯柱以及分别绕制在A相芯柱、B相芯柱、C相芯柱上的A相线圈、B相线圈、C相线圈,所述的上轭部和下轭部内均设有气隙板。

优选地,所述的上轭部包括分别与A相芯柱、B相芯柱、C相芯柱相连的A相上芯柱块、B相上芯柱块、C相上芯柱块以及安装在A相上芯柱块和C相上芯柱块之间并与B相上芯柱块相连的上铁轭;所述的A相上芯柱块、上铁轭和C相上芯柱块通过上夹件固定连接。

优选地,所述气隙板分别设在A相上芯柱块和上铁轭之间以及C相上芯柱块和上铁轭之间,并通过粘着剂粘接。

优选地,所述的A相上芯柱块与C相上芯柱块的高度相等。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海克拉电子有限公司,未经上海克拉电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921511163.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top