[实用新型]SCR脱硝系统

权利要求书

1.一种SCR脱硝系统，包括主体，所述主体包括依次连通的流通段和反应段，其特征在于，还包括，

第一喷氨单元，靠近所述流通段的烟气入口设置于所述流通段内；

第一催化剂层及第二喷氨单元，所述第二喷氨单元设置于所述反应段内，且所述第一催化剂层设置于所述第一喷氨单元与所述第二喷氨单元之间且位于所述反应段内；

第二催化剂层，设置于所述反应段内，且相对于所述第二喷氨单元远离所述第一催化剂层设置，所述第二喷氨单元与所述第二催化剂层间的间距大于所述第二喷氨单元与所述第一催化剂层间的间距。

2.根据权利要求1所述的SCR脱硝系统，其特征在于，所述第二喷氨单元与所述第一催化剂层间的间距为50mm-500mm；

所述第一喷氨单元设置第一喷嘴，所述第一喷氨单元具有以第一喷嘴为中心围绕其设置若干与所述第一喷嘴的夹角为0～90℃的第一辅助喷嘴，所述第一喷嘴的喷射方向与所述流通段轴向的夹角α为0°-45°；

所述第二喷氨单元设置第二喷嘴，所述第二喷氨单元具有以第一喷嘴为中心围绕其设置若干与所述第二喷嘴的夹角为0～90℃的第一辅助喷嘴，所述第二喷嘴的喷射方向与所述反应段轴向的夹角β为0°-45°。

3.根据权利要求1或2所述的SCR脱硝系统，其特征在于，还包括，

第三催化剂层，设置于所述反应段内，且相对于所述第二催化剂层远离所述第一催化剂层设置；

第四催化剂层，设置于所述反应段内，且相对于所述第三催化剂层远离所述第二催化剂层设置。

4.根据权利要求3所述的SCR脱硝系统，其特征在于，还包括第三喷氨单元，设置于所述反应段内，且所述第三喷氨单元设置于所述第二催化剂层与第三催化剂层之间。

5.根据权利要求4所述的SCR脱硝系统，其特征在于，所述第三喷氨单元与所述第三催化剂层间的间距大于所述第三喷氨单元与所述第二催化剂层间的间距；

所述第三喷氨单元设置第三喷嘴，所述第三喷氨单元具有以第一喷嘴为中心围绕其设置若干与所述第三喷嘴的夹角为0～90℃的第一辅助喷嘴，所述第三喷嘴的喷射方向与所述反应段轴向的夹角γ为0°-45°。

6.根据权利要求1或2所述的SCR脱硝系统，其特征在于，还包括，

均混单元，设置于所述流通段内，所述均混单元包括第一均混单元和第二均混单元，所述第一喷氨单元设置于所述第一均混单元和第二均混单元之间。

7.根据权利要求6所述的SCR脱硝系统，其特征在于，所述第一喷氨单元与所述第一均混单元之间的间距为50mm-500mm；

所述第一喷氨单元与所述第二均混单元之间的间距为50mm-500mm。

8.根据权利要求4所述的SCR脱硝系统，其特征在于，还包括，

还原剂供应装置，分别与所述第一喷氨单元、第二喷氨单元、第三喷氨单元连通，以给所述第一喷氨单元、第二喷氨单元、第三喷氨单元提供还原剂；

流量调节阀，分别设置于所述还原剂供应装置与所述第一喷氨单元、所述还原剂供应装置与所述第二喷氨单元、所述还原剂供应装置与所述第三喷氨单元。

9.根据权利要求8所述的SCR脱硝系统，其特征在于，所述第一喷氨单元为分区喷氨格栅、混合喷氨格栅的任一种；所述第二喷氨单元为分区喷氨格栅、混合喷氨格栅的任一种；所述第三喷氨单元为线性喷氨格栅。