[实用新型]一种高分子流延薄膜加工装置

权利要求书

1.一种高分子流延薄膜加工装置，包括料斗(100)，其特征在于：所述料斗(100)的锥形圆斗结构，所述料斗(100)斗腔安装有分料器(200)，所述分料器(200)上方均匀安装有料道(300)，所述分料器(200)的中心为一块圆形板，所述圆形板的圆周均匀设置有料槽(210)，所述料槽(210)底部的外侧壁均匀焊接有支撑杆(220)，所述支撑杆(220)的杆体中部的顶壁焊接有支撑柱(230)，所述料道(300)为上方开口的倾斜状方槽结构，且料道(300)的一端开设有漏口。

2.根据权利要求1所述的一种高分子流延薄膜加工装置，其特征在于：所述料槽(210)为顶部开口的弧形槽，且料槽(210)的槽腔底壁中部开设有下料口(211)，所述料槽(210)和分料器(200)中心的圆形板采用一体成型工艺加工制作而成。

3.根据权利要求1所述的一种高分子流延薄膜加工装置，其特征在于：所述支撑柱(230)外端焊接在料斗(100)的斗腔腔壁上。

4.根据权利要求1所述的一种高分子流延薄膜加工装置，其特征在于：所述支撑柱(230)的顶端与料道(300)的底壁中部相焊接。

5.根据权利要求1所述的一种高分子流延薄膜加工装置，其特征在于：所述料道(300)呈向心状均匀分布在料斗(100)的上方，所述料道(300)的外端高于料道(300)的内端，且料道(300)的内端为漏口端。