[实用新型]一种真空反应室的温度侦测结构

权利要求书

1.一种真空反应室的温度侦测结构，包括连接柱(1)与插头(2)，其特征在于：所述插头(2)的左端的上下两侧各设置有一个连接柱(1)，所述连接柱(1)通过套接连接在插头(2)的左端的上下两侧，所述连接柱(1)与插头(2)通过套接连接，所述插头(2)的右端的上侧设置有刻度尺(3)，所述刻度尺(3)与插头(2)通过插接连接，所述插头(2)的右端的轴心处设置有弹簧(4)，所述弹簧(4)与插头(2)通过套接连接，所述弹簧(4)的右端设置有直杆(5)，所述直杆(5)与弹簧(4)通过整体热熔固定连接，所述弹簧(4)的组成包括有第一支杆(41)、本体(42)和第二支杆(43)，所述第一支杆(41)的右端设置有本体(42)，所述本体(42)的右端设置有第二支杆(43)，所述弹簧(4)通过第一支杆(41)与插头(2)通过插接连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述插头(2)的组成包括有主体(21)、第一连接孔(22)和第二连接孔(23)，所述主体(21)的右端的表侧的左端设置有第一连接孔(22)，所述主体(21)的右端的表侧的右端设置有第二连接孔(23)，所述插头(2)通过第一连接孔(22)与弹簧(4)通过插接连接。

3.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述刻度尺(3)的组成包括有连接端(31)、刻度线(32)、计数表(33)和尺体(34)，所述连接端(31)的右端设置有尺体(34)，所述尺体(34)的前端的表侧的上端设置有刻度线(32)，所述刻度线(32)的下端设置有计数表(33)，所述刻度尺(3)通过连接端(31)与插头(2)通过插接连接。

4.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述连接柱(1)共设置有两个，两个所述连接柱(1)分别呈对称设置在插头(2)的左端的上下两侧，两个所述连接柱(1)均为圆柱体结构。

5.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述刻度尺(3)为扁平状的矩形体结构，所述刻度尺(3)的长度为五厘米，所述刻度尺(3)的宽度为一点二厘米，所述刻度尺(3)的厚度为零点五厘米。

6.根据权利要求2所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述第一连接孔(22)和第二连接孔(23)均设置在主体(21)的右端的表侧，所述第一连接孔(22)和第二连接孔(23)分别呈对称布置，所述第一连接孔(22)和第二连接孔(23)的形状尺寸均不相同。

7.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述弹簧(4)为卷曲状结构，所述弹簧(4)的本身具备一定的弹性，所述弹簧(4)的宽度为两点五厘米，所述弹簧(4)的长度为五厘米。

8.根据权利要求1所述的一种真空反应室的温度侦测结构，其特征在于：所述直杆(5)为圆柱体结构，所述直杆(5)的长度为十二厘米，所述直杆(5)的外侧的表端设置有陶瓷套筒。