[实用新型]一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备有效
| 申请号: | 201921365979.7 | 申请日: | 2019-08-21 |
| 公开(公告)号: | CN210314474U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
| 发明(设计)人: | 朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 | 申请(专利权)人: | 广东腾胜科技创新有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 官国鹏 |
| 地址: | 526000 广东省肇庆市三榕*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 隔膜 卷绕 真空镀膜 设备 | ||
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,具体涉及一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备。带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备,包括镀膜室、放卷室、收卷室和基材,放卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀,收卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀,从放卷室出来的基材依次经过放卷室和镀膜室之间的隔膜阀、镀膜室、镀膜室和收卷室之间的隔膜阀、收卷室。本实用新型通过设置隔膜阀,将收、放卷室与镀膜室隔离,使得镀膜室能长期处于真空状态,提高生产效率,降低生产成本。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,具体涉及一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜设备可用于汽车领域、光伏产业、消费电子等领域,具有广泛的运用前景,常用于镀制柔性基材PET/PEN/PI/PC等薄膜、金属铝材、超波玻璃等表面沉积金属膜、导电膜、合金膜、介质膜、屏蔽膜、光学膜等功能性或装饰膜层。
柔性基材的镀膜,基材和磁控靶位于同一个真空室中,基材与磁控靶材的更换都会破坏真空状态,而磁控靶材暴露在空气中容易发生氧化或粉尘表面污染,导致镀膜膜层变化,严重影响膜层质量。真空室的真空状态被破坏后,真空室内的设备表面会吸附空气中的水分,导致抽真空很慢,严重影响生产效率。
实用新型内容
针对现有技术中存在的技术问题,本实用新型的目的是:提供一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备,采用隔膜阀将收、放卷室与镀膜室隔离,使得镀膜室能长期处于真空状态,提高生产效率。
为了达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种带隔膜阀的T型卷绕真空镀膜设备,包括镀膜室、放卷室、收卷室和基材,放卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀,收卷室与镀膜室的相接处设有隔膜阀,从放卷室出来的基材依次经过放卷室和镀膜室之间的隔膜阀、镀膜室、镀膜室和收卷室之间的隔膜阀、收卷室。
进一步的,放卷室、收卷室和镀膜室呈T型分布,放卷室和收卷室并排设置在镀膜室的上方。
进一步的,真空镀膜设备还包括卷绕系统,卷绕系统包括沿着基材运行路径依次设置的放卷辊、卷绕机构、收卷辊。
进一步的,放卷室的上方铰接有第一翻转门,收卷室的上方铰接有第二翻转门。
进一步的,第一翻转门和第二翻转门均连接有电动装置、气动装置或液压装置。
进一步的,真空镀膜设备还包括磁控靶,磁控靶安装在靶车上。
进一步的,靶车滑动安装在路轨上,路轨设置在镀膜室底部。
进一步的,靶车上安装有定位支撑装置。
进一步的,磁控靶为平面阴极靶或旋转阴极靶。
进一步的,镀膜室呈圆形、方形或异形。
总的说来,本实用新型具有如下优点:
本实用新型通过设置隔膜阀,将收、放卷室与镀膜室隔离,使得镀膜室能长期处于真空状态,提高生产效率,降低生产成本。
附图说明
图1是本实用新型的主视结构示意图。
图2是本实用新型的侧视图。
图3是本实用新型的俯视图。
其中,1为放卷室,2为收卷室,3为隔膜阀,4为镀膜室,5为卷绕系统,6为放卷辊,7为收卷辊,8为靶车,9为定位支撑装置,10为卷绕机构,11为路轨,12为基材,13为磁控靶,14为第一翻转门,15为第二翻转门。
具体实施方式
下面将结合附图和具体实施方式来对本实用新型做进一步详细的说明。
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