[实用新型]一种光阻供应装置及涂胶设备有效
申请号: | 201921364688.6 | 申请日: | 2019-08-21 |
公开(公告)号: | CN210181385U | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 程龙;刘运田;刘玉兴;杨澜 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李欣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 供应 装置 涂胶 设备 | ||
本实用新型涉及平板显示制造技术领域,特别涉及一种光阻供应装置及涂胶设备。该光阻供应装置包括:支架框及光阻桶,光阻桶悬空固定于支架框内;光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节光阻桶内压强的稳压结构。光阻桶的桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶底部的最低处,并自最低处的出料端口接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框对光阻桶除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
技术领域
本实用新型涉及平板显示制造技术领域,特别涉及一种光阻供应装置及涂胶设备。
背景技术
在平板显示制造工艺中,阵列工艺一直被认为是液晶显示屏制造过程中的关键工艺,而光刻工序又被公认是阵列工艺中的关键控制工序,在整个工艺过程中光刻被多次使用,其工序稳定性和可靠性对液晶显示屏的良率、品质和成本有着决定性的影响。
光刻工序是一个非常繁杂的过程,其本质是把需要的像素电路以图形的方式化学感光、刻蚀和等离子注入方式复制到平板显示用的玻璃板上:首先使用光阻涂布机台在液晶显示用玻璃上涂布一层光敏材料——阵列用光阻,再用紫外光透过预设图形的掩膜版照射在光阻层上使其发生光化学反应,再利用显影技术将图形转移到玻璃板上。如果阵列光阻不稳定或者出现偏差,会影响后续的刻蚀工序,从而使光刻工序良率降低、报废品增多、成本上升。故阵列光阻涂布工序是阵列工艺的良率控制的关键。
为了保证阵列光阻涂布工艺的质量,一般会设置有阵列光阻供应装置配合光阻涂布机台。目前平板显示光阻供应装置中需要大量使用阵列用光阻,光阻一般存放在如图1所示的光阻桶20中,液晶显示屏生产工厂会通过桶口20和盖子30把阵列用光阻桶并联接入光阻涂布机台,一台光阻涂布机台一般会有两个光阻桶20交替更换使用。光阻桶20中的内部设有充满光阻50的塑料内袋40,在塑料内袋40的上方设置有开口,自开口伸入一根连接光阻涂布机台的汲液管60,通过向塑料内袋40和光阻桶20的内壁之间加压将光阻50通过汲液管60挤出到光阻涂布机台上,进行涂布工序。
但是,这种光阻桶在阵列用光阻即将使用完时仍会有光阻残液留在塑料内袋造成光阻浪费,若平板显示生产线用量大很多,造成光阻很大的浪费。
实用新型内容
本实用新型公开了一种光阻供应装置及涂胶设备,用于减少现有技术中光阻桶内过多残留光阻所引起的浪费。
为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:
一种光阻供应装置,包括:支架框及光阻桶,所述光阻桶悬空固定于所述支架框内;
所述光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,所述最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;
所述光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节所述光阻桶内压强的稳压结构。
上述光阻供应装置中,光阻桶的桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶底部的最低处,并自最低处的出料端口接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框对光阻桶除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
可选地,所述稳压结构包括进气端口、排气端口以及自动稳压器。
可选地,所述光阻桶的顶部设有上封头,所述进料端口、所述进气端口、所述排气端口以及所述自动稳压器均设置于所述上封头上。
可选地,所述上封头设置有清洗盖,所述清洗盖内侧设置有用于清洗所述光阻桶内部的清洗组件。
可选地,所述光阻桶的内壁覆有四氟树脂膜。
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