[实用新型]一种电注入机台有效
| 申请号: | 201921353577.5 | 申请日: | 2019-08-20 |
| 公开(公告)号: | CN210073901U | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
| 发明(设计)人: | 韩少鹏;胥洋;石伟;罗本前;侯玉;黄浩;杨超;潘励刚;邢国强 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司: | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 工作腔 机台 电注入 上加热装置 下加热装置 进气装置 冷却风 硅片 本实用新型 加热 侧面设置 顶部设置 温度过高 冷却气 叠置 光伏 冷却 侧面 | ||
1.一种电注入机台,所述电注入机台内设有用于放置硅片的工作腔,其特征在于,所述电注入机台还包括:
上加热装置(1),设于所述工作腔的顶部;
下加热装置(2),设于所述工作腔的底部;
冷却风进气装置(3),设于所述电注入机台的侧面,用于对所述工作腔进行冷却。
2.根据权利要求1所述的电注入机台,其特征在于,所述冷却风进气装置(3)包括多个沿水平方向平行且间隔设置的进气管路(31),所述进气管路(31)的端口与所述工作腔连通。
3.根据权利要求2所述的电注入机台,其特征在于,所述进气管路(31)的所述端口连通有上支管路(311)和下支管路(312),所述上支管路(311)和所述下支管路(312)与工作腔连通。
4.根据权利要求3所述的电注入机台,其特征在于,所述电注入机台的侧壁上设有与所述上支管路(311)和所述下支管路(312)一一对应的多个进气孔(32)。
5.根据权利要求3所述的电注入机台,其特征在于,在所述电注入机台的侧壁上于所述上支管路(311)和所述下支管路(312)之间设有感温装置(4)。
6.根据权利要求2-4任一项所述的电注入机台,其特征在于,每一所述进气管路(31)上均设有阀门(313)。
7.根据权利要求1-5任一项所述的电注入机台,其特征在于,所述电注入机台的相对的两个侧面均设有所述冷却风进气装置(3)。
8.根据权利要求1-5任一项所述的电注入机台,其特征在于,所述电注入机台还设有热排抽风口(52)。
9.根据权利要求1-5任一项所述的电注入机台,其特征在于,所述电注入机台的部分侧面设有活动门(51),所述冷却风进气装置(3)设于所述电注入机台未设有所述活动门(51)的侧面上。
10.根据权利要求1-5任一项所述的电注入机台,其特征在于,所述电注入机台的侧面设有多个所述冷却风进气装置(3),每个所述冷却风进气装置(3)独立控制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司,未经苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





