[实用新型]一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪

说明书

本实用新型公开了一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，属于微加工装置领域，包括旋涂箱，所述旋涂箱内设置有静电吸附支撑台，所述静电吸附支撑台的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台的上部设置有滴胶管，所述滴胶管延伸至所述旋涂箱的外侧，所述旋涂箱外侧的所述滴胶管上设置有供胶机构，所述旋涂箱的顶部一侧设置有开口，所述开口上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台与外接电源电连接，所述旋涂箱的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱的外侧还设置有控制器。通过旋涂箱、静电吸附支撑台、静电吸附支撑台的底部的旋转驱动机构、滴胶管及抽真空机构的设置，能完全避开空气的作用，在涂胶时不会出现针孔现象，涂胶均匀，效果理想。

技术领域

本实用新型涉及微加工装置领域，具体的是涉及一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪。

背景技术

在微型器件和微机电系统(MEMS)等的微加工过程中，光刻胶的旋涂通常是必不可少的步骤，其目的是获得平整度良好的光刻胶胶膜。胶膜的平整性直接决定后续工艺的质量，进而影响微器件和微系统的整体质量。该工艺步骤的具体原理与方法是：首先在基片的中心滴涂光刻胶，当高速旋转的基片产生的离心力与光刻胶膜的表面张力达到平衡时，即可在基片表面获得一层均匀的光刻胶胶膜。该工艺步骤是通过旋涂仪实现的。

申请号为：CN201520077139.6公开了一种用于旋涂粘稠光刻胶的旋涂仪卡盘系统，包括旋转轴、吸盘、支撑卡盘、E型卡盘，旋转轴位于系统的中轴线上，支撑卡盘通过铆钉与旋转轴连接，支撑卡盘沿旋转轴上下移动的位置由铆钉固定；吸盘置于旋转轴的顶端；E型卡盘环绕在方形卡盘的四周，E型卡盘的下部与支撑台通过铆钉固定，E型卡盘相互交错，可通过铆钉实现水平移动。本实用新型可实现旋涂高粘稠度光刻胶时获得平整度良好的胶膜，而且适用于在不同尺寸和厚度的方形基片上旋涂光刻胶，可用于微加工和微机电系统等广泛领域。

该专利虽然设置了旋涂仪卡盘系统，但是卡盘系统是中空的，及分布有空气，在旋转轴旋转时会带动空气流动，因空气中存在粉尘，匀胶时会出现针孔现象，匀胶效果不理想，此外匀胶过程中由于空气的扰动还会引起湍流，也导致匀胶效果不理想；此外该专利以铆钉来调整支撑卡盘的的上下移动和固定，需要人工操作，有误差(基片的上平面与E型卡盘中部上平面不在在同一水平面上)，自动化程度低，不准确。

实用新型内容

针对上述现有的由于空气的原因，导致匀胶时会出现针孔现象，匀胶效果不理想的缺陷，本实用新型的目的是提供一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，包括旋涂箱，所述旋涂箱内设置有静电吸附支撑台，所述静电吸附支撑台的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台的上部设置有滴胶管，所述滴胶管延伸至所述旋涂箱的外侧，所述旋涂箱外侧的所述滴胶管上设置有供胶机构，所述旋涂箱的顶部一侧设置有开口，所述开口上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台与外接电源电连接，所述旋涂箱的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱的外侧还设置有控制器。

工作原理：使用时，打开旋涂箱上的密封门，将需要涂胶的基片置于静电吸附支撑台上，关闭密封门，抽真空机构开始将旋涂箱内的空气抽走，保证旋涂箱内的真空度为5-10托，控制器控制外接电源打开，产生静电吸附，静电吸附工作台靠产生的静电将基片牢固的吸住，供胶机构向滴胶管内供胶，同时滴胶管向基片上滴加合适数量的光刻胶，光刻胶的供胶量由供胶机构控制，之后旋转驱动机构带动静电吸附支撑台，基片及基片上的光刻胶旋转高速(1500-6000转/分)的旋转作用下将光刻胶均匀旋涂在基片上。通过旋涂箱、静电吸附支撑台、静电吸附支撑台的底部的旋转驱动机构、滴胶管及抽真空机构的设置，能完全避开空气的作用，在涂胶时不会出现针孔现象，涂胶均匀，效果理想，解决了上述现有的由于空气的原因，导致匀胶时会出现针孔现象，匀胶效果不理想的缺陷。

旋涂箱还设置有压力传感器，且其与控制器电连接。