[实用新型]一种光刻胶配套材料烘干设备有效

专利信息
申请号: 201921326822.3 申请日: 2019-08-15
公开(公告)号: CN210199499U 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 李永斌 申请(专利权)人: 甘肃华隆芯材料科技有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 李春霖
地址: 730900 甘肃省白银市白银区兰包路33*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 配套 材料 烘干 设备
【说明书】:

实用新型涉及一种光刻胶配套材料烘干设备,包括连接在光刻胶涂覆机与烘干机构之间的传送机构,传送机构包括支撑架,连接在支撑架上的传动轴,套设在传动轴上的传送履带,传动轴上连接有驱动传动轴旋转的驱动机构,支撑架上连接有防尘罩。该烘干设备降低了工作人员对光刻胶晶片基板的转移的工作,提高了工作效率的同时还避免了转移过程中对晶片基板上的光刻胶造成污染,提高了光刻胶晶片基板的质量,提高了生产厂家的收益。

技术领域

本实用新型涉及回收装置技术领域,具体涉及一种光刻胶配套材料烘干设备。

背景技术

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。在使用过程中,将晶片放置在自转机上,涂布头将光刻胶喷洒在旋转的晶片基板中心,液态的光刻胶在旋转的晶片上依据离心力,铺展开来,依据自身的粘性,在晶片基板上以均匀地厚度分布。

光刻胶涂覆到晶片上之后,仍然处于“软”状态,与晶片基板之间的粘接不够牢固,密着性不够,容易掉落,影响制作的产品的质量。现有的处理方式通常是通过工作人员将涂覆有光刻胶的晶片基板收集到一定量之后再整体一起运送到烘干机构中进行高温烘干处理,将光刻胶中的溶剂蒸发,使其与晶体基板粘接牢固。

但是现有的处理方式在工作人员转移过程中通常会造成晶片基板上的光刻胶被污染导致制造的光刻胶晶片基板质量低,而且在运送过程中可能出现碰撞导致对晶片基板上的光刻胶涂覆纹路造成损害,同时工作人员在转移过程中需要耗费大量的时间和人工劳动力,导致工作效率很低,造成生产厂家的运营成本高。

实用新型内容

针对现有的在工作人员转移烘干的过程中会对晶片基板上的光刻胶造成污染影响制品的质量,同时还需要耗费工作人员大量的时间和劳动力,导致工作效率低、生产厂家的运营成本高的问题,本申请提出了一种光刻胶配套材料烘干设备,该烘干设备降低了工作人员对光刻胶晶片基板的转移的工作,提高了工作效率的同时还避免了转移过程中对晶片基板上的光刻胶造成污染,提高了光刻胶晶片基板的质量,提高了生产厂家的收益。

为了实现上述目的,本实用新型提供一种光刻胶配套材料烘干设备,包括连接在光刻胶涂覆机与烘干机构之间的传送机构,所述传送机构包括支撑架,连接在支撑架上的传动轴,套设在传动轴上的传送履带,所述传动轴上连接有驱动传动轴旋转的驱动机构,所述支撑架上连接有防尘罩。

本技术方案的工作原理和过程如下:在使用本申请中的一种光刻胶配套材料烘干设备时,当晶片基板在光刻胶涂覆机中涂覆完毕光刻胶之后,工作人员将涂覆有光刻胶的晶片基板从光刻胶涂覆机中取出,直接放置到传动履带上,工作人员通过启动连接在传动轴上的驱动机构,即可使传送履带转动,进而使放置在传动履带上的光刻胶晶片基板向前移动至烘干机构中进行烘干处理,在传送过程中,通过连接在支撑架上的防尘罩实现对传动履带上的晶片基板的防尘保护作用,避免晶片基板上涂覆的光刻胶被空气中的灰尘污染。

本申请中的光刻胶配套材料的烘干设备,通过在光刻胶涂覆机与烘干机构之间连接传动机构,工作人员即可将喷涂完光刻胶的晶片基板从光刻胶涂覆机中取出之后,立马放置到传动履带上,通过传动履带将涂覆有光刻胶的晶片基板运送到烘干机构中进行烘干即可,减少了工作人员对光刻胶晶片基板的运动工作和时间,提高了工作效率,同时还避免了在工作人员堆积大量的基板运送的过程中造成的对晶片基板上的光刻胶的污染,以及避免了在运送过程中可能出现碰撞导致对晶片基板上的光刻胶涂覆纹路造成损害,本申请通过传送履带逐一运送,降低了工作人员的工作量,提高了工作效率,同时还实现了对晶片基板上的光刻胶的保护,而且本申请在支撑架上连接的防尘罩也实现了对晶片基板上的光刻胶的保护,提高了产品的质量,增加了生产厂家的收益。

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