[实用新型]一种洁净室

说明书

本实用新型涉及生产厂房技术领域，公开了一种洁净室，包括由上到下依次设置的上技术夹层、洁净生产层、下技术夹层和回风夹道，其中，洁净生产层和下技术夹层之间通过支撑件和设置于支撑件上的活动地板分隔，活动地板由设置有开孔的活动板和未设置开孔的固定板拼接而成，活动地板包括由靠近回风夹道一侧向远离回风夹道一侧排列的多个子区域，各子区域内的活动板上设置有多个开孔，且每个子区域内的活动地板的的有效开孔率满足有效开孔率(N)计算公式；该洁净室的活动地板包括不同的子区域，且各子区域内的活动地板的有效开孔率满足有效开孔率(N)计算公式，从而实现了洁净生产层内的气流调节、且成本低。

技术领域

本实用新型涉及生产厂房技术领域，特别涉及一种洁净室。

背景技术

电子工业的半导体生产、平板显示生产、光电子器件等都需要用到洁净生产环境，其中净化级别在6级或更高的洁净等级的洁净室通常会采用垂直单向流的洁净室形式。此种洁净室包括活动地板及位于活动地板以下的下技术夹层、洁净生产层和吊顶以上的上技术夹层。其中活动地板一般采用高架地板开孔地板或开孔盖板，现有洁净室的架空地板开孔地板或开孔盖板布置方式为根据房间平均风速均匀布置开孔地板或开孔盖板或根据吊顶送风风口风量布置相应地面开孔地板或开孔盖板。但是，随着半导体及平板显示器件等电子器件及设备的制造向更高世代发展，所需要的洁净厂房的面积也越来越大，同时工艺设备的布置更加密集，如继续采用单一的开孔率的开孔地板或开孔盖板进行均匀布置，将会造成房间气流组织不利，在密集设备端出现大量涡旋气流；同时由于下技术夹层的回风气流造成系统整体压力的不平衡，在远离回风夹道端的洁净室内会产生大量偏斜气流，造成洁净室内横向气流增大，影响房间洁净度及温湿度的管控。

实用新型内容

本实用新型提供了一种洁净室，上述洁净室的活动地板包括不同的子区域，且各子区域内的活动地板的有效开孔率满足有效开孔率(N)计算公式，从而实现了洁净生产层内的气流调节、且成本低。

为达到上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种洁净室，包括由上到下依次设置的上技术夹层、洁净生产层、下技术夹层，还包括连通上技术夹层及下技术夹层的回风夹道，其中，洁净生产层和下技术夹层之间通过支撑件和设置于所述支撑件上的活动地板分隔，所述活动地板由设置有开孔的活动板和未设置开孔的固定板拼接而成，所述活动地板包括由靠近回风夹道一侧向远离回风夹道一侧排列的多个子区域，各所述子区域内的活动板上设置有多个开孔，且每个所述子区域内的活动地板的有效开孔率(N)满足计算公式：

N：洁净室在当前子区域内的活动地板的有效开孔率(％)；

F：当前子区域内总循环空气量(m³/h)；

A：当前子区域内的活动地板总面积(m²)；

B：当前子区域内的设备基础面积(m²)；

C：当前子区域内的工艺设备底座遮挡通风面积(m²)；

V：人为设定的活动板上的开孔口断面风速(m/s)。