[实用新型]一种半导体废水的处理系统有效

专利信息
申请号: 201921282366.7 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN210457769U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 施国新;钱震;马辑;沈培新;李宇庆 申请(专利权)人: 苏州苏净环保工程有限公司
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06;C02F101/20;C02F101/30
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 向亚兰
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 废水 处理 系统
【说明书】:

实用新型公开了一种半导体废水的处理系统,处理系统包括依次连通的半导体废水pH值调节池、混凝反应池、浓缩槽、管式微滤膜系统、管式微滤膜产水水箱、活性炭过滤器、一级反渗透系统、二级反渗透系统和连续电除盐系统,还包括回流管、螯合树脂离子交换器,回流管的两端分别连通浓缩槽与管式微滤膜系统,一级反渗透系统的浓水出口、二级反渗透系统的浓水出口分别与螯合树脂离子交换器连通;其中,活性炭过滤器具有至少两个且相互并联设置;本实用新型能够实现有效且高效地处理半导体废水,出水水质稳定,同时可直接将废水制成纯水而应用于生产上,水质电阻率达到15MΩ·cm以上,实现生产的闭路循环。

技术领域

本实用新型涉及废水处理技术领域,尤其涉及一种半导体废水的处理系统。

背景技术

近些年随着经济水平的逐渐提高,我国各项发展项目正在进行积极稳定的开展,这对于国家现代化建设具有积极的影响作用。其中半导体行业是受到较为重视的一项内容,但是在半导体快速发展与进步的同时,还存在一些有待进一步解决的问题,例如半导体行业生产废水处理就是我国下一阶段需要进行解决的基本内容,只有将废水合理处理并且回用,才能使我国半导体行业的生产竞争能力更强。

在半导体行业生产产生的重金属是较多的,过多的重金属离子经过排放流入外界的土壤中对于植物的生长十分不利。故目前行业内均考虑对半导体废水进行回用,目前对半导体行业含重废水常规的回用方法主要有:1)混凝沉淀+砂滤+离子交换法;2)混凝沉淀+UF超滤+RO反渗透。然而第一种方法制取的回用水水质指标不高,仅能满足杂用水要求,而企业对杂用水的需求量比较有限,多余的回用水最终只能通过排口排走,对水资源造成很大的浪费;第二种方法制取的回用水水质指标比第一种相对要好些,但也仅仅能达到接近自来水的标准,仍然不能直接使用于生产,水的利用率没有达到最大化。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种改进的半导体废水的处理系统,其能够实现有效且高效地处理半导体废水,出水水质稳定,同时可直接将废水制成纯水而应用于生产上,水质电阻率达到15MΩ·cm以上,实现生产的闭路循环。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:

一种半导体废水的处理系统,所述处理系统包括依次连通的半导体废水pH值调节池、混凝反应池、浓缩槽、管式微滤膜系统、管式微滤膜产水水箱、活性炭过滤器、一级反渗透系统、二级反渗透系统和连续电除盐系统(简称EDI系统),还包括回流管、螯合树脂离子交换器,所述回流管的两端分别连通所述浓缩槽与所述管式微滤膜系统,所述一级反渗透系统的浓水出口、所述二级反渗透系统的浓水出口分别与所述螯合树脂离子交换器连通;其中,所述活性炭过滤器具有至少两个且相互并联设置。

根据本实用新型的一些优选且具体的方面,所述处理系统还包括碱液储槽、混凝剂储罐,所述碱液储槽与所述半导体废水pH值调节池连通,所述混凝剂储罐与所述混凝反应池连通。

根据本实用新型的一些优选且具体的方面,所述处理系统还包括活性炭产水水箱,所述活性炭产水水箱设置在所述活性炭过滤器与所述一级反渗透系统之间。

根据本实用新型的一些优选且具体的方面,所述处理系统还包括一级反渗透系统产水水箱、二级反渗透系统产水水箱和回用水箱,所述一级反渗透系统产水水箱设置在所述一级反渗透系统与所述二级反渗透系统之间,所述二级反渗透系统产水水箱设置在所述二级反渗透系统与所述连续电除盐系统之间,所述回用水箱与所述连续电除盐系统连通。

根据本实用新型的一些优选且具体的方面,所述处理系统还包括与所述管式微滤膜产水水箱连通的用于调节所述管式微滤膜产水水箱内体系pH值的工艺水进水管。

根据本实用新型的一些优选方面,所述工艺水进水管与所述回用水箱连通。

根据本实用新型的一些具体且优选的方面,所述处理系统还包括污泥浓缩池,所述污泥浓缩池分别与所述浓缩槽、所述管式微滤膜系统连通。

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