[实用新型]一种高稳定性回转窑支架

说明书

本实用新型公开了一种高稳定性回转窑支架，解决了回转窑工作后对支架损耗较大和支架稳定性差的问题，其技术方案要点是：所述固定座位于底座顶部，所述的托辊位于固定座顶部两侧，所述的托辊两侧转轴外设置有轴拖，所述托辊两端转轴设置于轴承内，所述的轴承底部设置有缓冲垫，所述缓冲垫截面为半圆形，所述的轴拖底部设置有底垫，所述的固定座底部设置有轴向的凹槽，所述的底座上设置有与凹槽相配合的凸台，所述的凹槽内设置有缓冲罩，所述的固定座上托辊底部设置有开槽，所述开槽两侧设置有辅助辊，所述辅助辊表面与托辊表面相接处。达到了增加回转窑稳定性的目的。

技术领域

本实用新型属于回转窑技术领域，特指一种高稳定性回转窑支架。

背景技术

回转窑是指旋转煅烧窑，属于建材设备类。回转窑按处理物料不同可分为水泥窑、冶金化工窑和石灰窑。冶金化工窑则主要用于冶金行业钢铁厂贫铁矿磁化焙烧；铬、镍铁矿氧化焙烧；耐火材料厂焙烧高铝钒土矿和铝厂焙烧熟料、氢氧化铝；化工厂焙烧铬矿砂和铬矿粉等类矿物。石灰窑用于焙烧钢铁厂、铁合金厂用的活性石灰和轻烧白云石。然而，回转窑自身属于重型工业设备，自身重量较大，因此需要在回转窑底部设置支架进行支撑，然而在回转窑运转过程中，随着回转窑的温度上升，回转窑自身体积受热膨胀，会对支架产生挤压，长时间后会导致支架产生形变，而且，在回转窑刚刚启动时，支架的托辊和底座所受的外力较大，容易导致支架产生形变，长时间使用容易产生安全隐患。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种缓冲效果好，稳定性高的回转窑支架。

本实用新型的目的是这样实现的：一种高稳定性回转窑支架，包括固定座、底座和两个托辊，所述托辊两侧设置有转轴，所述固定座位于底座顶部，所述的托辊位于固定座顶部两侧，所述的托辊两侧转轴外设置有轴拖，所述轴拖内设置有轴承，所述托辊两端转轴设置于轴承内，所述的轴承底部设置有缓冲垫，所述缓冲垫截面为半圆形，所述轴拖上设置有与缓冲垫形状相适配的槽口，所述的轴拖底部设置有底垫，所述的固定座底部设置有轴向的凹槽，所述的底座上设置有与凹槽相配合的凸台，所述的凹槽内设置有缓冲罩，所述的固定座上托辊底部设置有开槽，所述开槽两侧设置有辅助辊，所述辅助辊表面与托辊表面相接处。

本实用新型进一步优化为：所述的固定座和底垫上设置有滑道，所述的轴拖安装于滑道内，所述的固定座上轴拖外侧设置有推进调节器，所述推进调节器可控制轴拖在滑道内移动。

本实用新型进一步优化为：所述的轴承内部设置有若干滚柱，所述滚柱靠近托辊一侧向轴承外侧倾斜。

本实用新型进一步优化为：所述的底座上的凸台与底座为一体结构。

本实用新型相比现有技术突出且有益的技术效果是：本实用新型轴拖内轴承底部设置有缓冲垫，能够有效减缓回转窑突然转动时产生的冲击，底垫能够更好的增加托辊的稳定性，减缓回转窑受热膨胀后托辊的压力，所述辅助辊能够有效增加托辊的稳定向，减缓轴拖的压力，增加装置整体的使用寿命，同时，固定座底部和底座之间通过通过凹槽和凸台结构相连接，内部设置有缓冲罩，可有效防止固定座受回转窑作用产生形变或偏移。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的部分结构示意图；

图3是本实用新型的固定座结构示意图。

图中：1-固定座，2-底座，3-托辊，4-转轴，5-轴承，6-缓冲垫，7-底垫，8-缓冲罩，9-凸台，10-辅助辊，11-滑道，12-滚柱,13-推进调节器,14-轴拖,15-回转窑主体。

具体实施方式