[实用新型]一种高稳定性回转窑支架

权利要求书

1.一种高稳定性回转窑支架，包括回转窑主体（15）、固定座（1）、底座（2）和两个托辊（3），所述两个托辊（3）分别位于回转窑主体（15）底部两侧，所述托辊（3）两侧设置有转轴（4），所述固定座（1）位于底座（2）顶部，所述的托辊（3）位于固定座（1）顶部两侧，其特征在于，所述的托辊（3）两侧转轴（4）外设置有轴拖（14），所述轴拖（14）内设置有轴承（5），所述托辊（3）两端转轴（4）设置于轴承（5）内，所述的轴承（5）底部设置有缓冲垫（6），所述缓冲垫（6）截面为半圆形，所述轴拖（14）上设置有与缓冲垫（6）形状相适配的槽口，所述的轴拖（14）底部设置有底垫（7），所述的固定座（1）底部设置有轴向的凹槽，所述的底座（2）上设置有与凹槽相配合的凸台（9），所述的凹槽内设置有缓冲罩（8），所述的固定座（1）上托辊（3）底部设置有开槽，所述开槽两侧设置有辅助辊（10），所述辅助辊（10）表面与托辊（3）表面相接处。

2.根据权利要求1所述的高稳定性回转窑支架，其特征在于，所述的固定座（1）和底垫（7）上设置有滑道（11），所述的轴拖（14）安装于滑道（11）内，所述的固定座（1）上轴拖（14）外侧设置有推进调节器（13），所述推进调节器（13）可控制轴拖（14）在滑道（11）内移动。

3.根据权利要求1所述的高稳定性回转窑支架，其特征在于，所述的轴承（5）内部设置有若干滚柱（12），所述滚柱（12）靠近托辊（3）一侧向轴承（5）外侧倾斜。

4.根据权利要求1所述的高稳定性回转窑支架，其特征在于，所述的底座（2）上的凸台（9）与底座（2）为一体结构。