[实用新型]光学镀膜用坩埚

说明书

本实用新型公开了一种光学镀膜用坩埚，所述坩埚包括底壁及自底壁向外延伸的侧壁，所述底壁的上表面呈凹陷的弧面结构，以增加底壁的散热面积，所述侧壁上沿沿外侧面设有槽口，以提高坩埚的机械强度，所述底壁上的弧面结构与侧壁的内表面相连，所述坩埚内包括位于底壁内的第一收容空间及由侧壁围设而成的第二收容空间，第二收容空间的截面积从下向上逐渐增大。本实用新型中的光学镀膜用坩埚中，底部的弧面结构能够增加底壁的散热面积，侧壁上沿的槽口能够提高坩埚的机械强度，坩埚具有机械强度高、不易变形、散热效果好、使用寿命长等优点。

技术领域

本实用新型涉及光学镀膜技术领域，特别是涉及一种光学镀膜用坩埚。

背景技术

蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

真空镀膜是将蒸镀材料置于一个坩埚之中，通过对坩埚的加热，使坩埚内材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜，该技术广泛应用于光学镜片镀膜、光通讯、太阳能电池及液晶显示等领域。

参图1、图2所示为现有技术中的坩埚结构示意图，其使用纯铜材料加工，纯铜材料熔点为1083℃。坩埚的结构底面为平面，侧面呈弧面设计，在对坩埚加热过程中，由于加热温度较高，散热效率较低，且机械强度差，容易发生坩埚变形的情况，造成坩埚的使用寿命较短，通常为1个月左右。

因此，针对上述技术问题，有必要提供一种光学镀膜用坩埚。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种光学镀膜用坩埚。

为了实现上述目的，本实用新型一实施例提供的技术方案如下：

一种光学镀膜用坩埚，所述坩埚包括底壁及自底壁向外延伸的侧壁，所述底壁的上表面呈凹陷的弧面结构，以增加底壁的散热面积，所述侧壁上沿沿外侧面设有槽口，以提高坩埚的机械强度，所述底壁上的弧面结构与侧壁的内表面相连，所述坩埚内包括位于底壁内的第一收容空间及由侧壁围设而成的第二收容空间，第二收容空间的截面积从下向上逐渐增大。

作为本实用新型的进一步改进，所述弧面结构与水平面的最大夹角为28°～32°。

作为本实用新型的进一步改进，所述槽口剖面为三角形或弧形结构。

作为本实用新型的进一步改进，所述槽口的开口角度为83°～95°。

作为本实用新型的进一步改进，所述槽口的开口尺寸为0.8mm～1.2mm，开口深度为0.3mm～0.7mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述侧壁上沿的外径为35mm～41mm，内径为29mm～35mm，坩埚高度为16mm～20mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述侧壁厚度为2mm～4mm，侧壁长度为7mm～11mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一收容空间和第二收容空间的总深度为11mm～16mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述底壁的中心最低点厚度为3mm～6mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述坩埚的底壁及侧壁为一体成型设置，坩埚的材料为钼合金。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型中的光学镀膜用坩埚中，底部的弧面结构能够增加底壁的散热面积，侧壁上沿的槽口能够提高坩埚的机械强度，坩埚具有机械强度高、不易变形、散热效果好、使用寿命长等优点。