[实用新型]光学镀膜用坩埚

权利要求书

1.一种光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述坩埚包括底壁及自底壁向外延伸的侧壁，所述底壁的上表面呈凹陷的弧面结构，以增加底壁的散热面积，所述侧壁上沿沿外侧面设有槽口，以提高坩埚的机械强度，所述底壁上的弧面结构与侧壁的内表面相连，所述坩埚内包括位于底壁内的第一收容空间及由侧壁围设而成的第二收容空间，第二收容空间的截面积从下向上逐渐增大。

2.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述弧面结构与水平面的最大夹角为28°～32°。

3.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述槽口剖面为三角形或弧形结构。

4.根据权利要求3所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述槽口的开口角度为83°～95°。

5.根据权利要求3所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述槽口的开口尺寸为0.8mm～1.2mm，开口深度为0.3mm～0.7mm。

6.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述侧壁上沿的外径为35mm～41mm，内径为29mm～35mm，坩埚高度为16mm～20mm。

7.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述侧壁厚度为2mm～4mm，侧壁长度为7mm～11mm。

8.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述第一收容空间和第二收容空间的总深度为11mm～16mm。

9.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述底壁的中心最低点厚度为3mm～6mm。

10.根据权利要求1所述的光学镀膜用坩埚，其特征在于，所述坩埚的底壁及侧壁为一体成型设置，坩埚的材料为钼合金。