[实用新型]一种硅片清洗液循环系统有效

专利信息
申请号: 201921207381.5 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN210006704U 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 信广志;冯艳红;韩萍 申请(专利权)人: 天津创昱达光伏科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 宋平
地址: 301803 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 清洗液 循环箱 电磁阀 出水管 本实用新型 第一电磁阀 滤水装置 硅片 底端 预洗 三通 硅片清洗液 硅片清洗 循环系统 抽水泵 净水箱 清洗箱 侧壁 精洗 净水 连管 清洗
【说明书】:

实用新型公开了一种硅片清洗液循环系统,涉及硅片清洗技术领域,针对现有清洗液利用率不高的问题,现提出如下方案,其包括清洗箱,所述清洗箱底端设有出水管,所述出水管底端设有三通,所述出水管底端通过三通分别固定有第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀,所述第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀分别通过连管连接有第一循环箱、第二循环箱、滤水装置,滤水装置侧壁固定有净水箱,所述净水箱内设有抽水泵。本实用新型中,通过第一循环箱和第二循环箱等结构的设置,可以用第一循环箱内的清洗液对硅片进行预洗,第二循环箱内的清洗液对硅片进行精洗,完后第二循环箱内的清洗液可以抽送到第一循环箱中做预洗,节省了清洗液。

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域,尤其涉及一种硅片清洗液循环系统。

背景技术

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。

而现有硅片的清洗液利用率不高,且清洗液直接排放到下水道中,对环境造成污染,为此我们提出一种硅片清洗液循环系统,来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种硅片清洗液循环系统。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种硅片清洗液循环系统,包括清洗箱,所述清洗箱底端设有出水管,所述出水管底端设有三通,所述出水管底端通过三通分别固定有第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀,所述第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀分别通过连管连接有第一循环箱、第二循环箱、滤水装置,滤水装置侧壁固定有净水箱,所述净水箱内设有抽水泵,所述净水箱上设有通向清洗箱的水管,所述第一循环箱内腔设有第一水泵,所述第二循环箱内设有第二水泵和第三水泵,所述第二水泵连接有通向第一循环箱的分液管,所述第一水泵、第三水泵均连接有通向清洗箱的输液管,所述第一循环箱底端设有第四电磁阀,所述第四电磁阀底端通过水管连接有废液箱,滤水装置底端设有第五电磁阀,所述第五电磁阀底端连接有通向废液箱的水管;

滤水装置包括滤水箱,滤水箱内设有电机,所述电机的输出轴端固定有凸轮,所述凸轮正面边缘处转动连接有连杆,所述连杆的另一端转动连接有活塞,所述滤水箱另一端设置有半透膜。

优选的,所述清洗箱上设有开关和控制器,开关和控制器构成一条回路,控制器为单片机,控制器与第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、第五电磁阀、第一水泵、第二水泵、第三水泵、电机、抽水泵电性连接。

优选的,所述滤水箱顶端设有圆孔,第一电磁阀上连接的连管固定安装在圆孔处。

优选的,所述活塞与滤水箱内腔紧密贴合。

优选的,所述第五电磁阀安装于半透膜与活塞之间。

优选的,所述清洗箱底端设有出水孔,出水管安装在出水孔处,出水孔处设有防水塞。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型中:

1、通过第一循环箱和第二循环箱等结构的设置,可以用第一循环箱内的清洗液对硅片进行预洗,第二循环箱内的清洗液对硅片进行精洗,完后第二循环箱内的清洗液可以抽送到第一循环箱中做预洗,节省了清洗液。

2、通过废液箱和滤水装置等结构的设置,可以对冲洗的水进行过滤,可以对清洗液进行收集,并集中处理和回收利用,保护环境和节约资源,水资源可以重新利用,节约水资源。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种硅片清洗液循环系统的主视图。

图2为图1中A处的剖视图。

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