[实用新型]一种硅片清洗液循环系统有效

专利信息
申请号: 201921207381.5 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN210006704U 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 信广志;冯艳红;韩萍 申请(专利权)人: 天津创昱达光伏科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 宋平
地址: 301803 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 清洗液 循环箱 电磁阀 出水管 本实用新型 第一电磁阀 滤水装置 硅片 底端 预洗 三通 硅片清洗液 硅片清洗 循环系统 抽水泵 净水箱 清洗箱 侧壁 精洗 净水 连管 清洗
【权利要求书】:

1.一种硅片清洗液循环系统,包括清洗箱(1),其特征在于,所述清洗箱(1)底端设有出水管(2),所述出水管(2)底端设有三通,所述出水管(2)底端通过三通分别固定有第一电磁阀(3)、第二电磁阀(4)、第三电磁阀(5),所述第一电磁阀(3)、第二电磁阀(4)、第三电磁阀(5)分别通过连管连接有第一循环箱(6)、第二循环箱(7)、滤水装置,滤水装置侧壁固定有净水箱(8),所述净水箱(8)内设有抽水泵,所述净水箱(8)上设有通向清洗箱(1)的水管,所述第一循环箱(6)内腔设有第一水泵(9),所述第二循环箱(7)内设有第二水泵(10)和第三水泵(11),所述第二水泵(10)连接有通向第一循环箱的分液管(12),所述第一水泵(9)、第三水泵(11)均连接有通向清洗箱(1)的输液管(13),所述第一循环箱(6)底端设有第四电磁阀(14),所述第四电磁阀(14)底端通过水管连接有废液箱(15),滤水装置底端设有第五电磁阀(16),所述第五电磁阀(16)底端连接有通向废液箱(15)的水管;

滤水装置包括滤水箱(17),滤水箱(17)内设有电机(18),所述电机(18)的输出轴端固定有凸轮(19),所述凸轮(19)正面边缘处转动连接有连杆(20),所述连杆(20)的另一端转动连接有活塞(21),所述滤水箱(17)另一端设置有半透膜(22)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液循环系统,其特征在于,所述清洗箱(1)上设有开关和控制器,开关和控制器构成一条回路,控制器为单片机,控制器与第一电磁阀(3)、第二电磁阀(4)、第三电磁阀(5)、第四电磁阀(14)、第五电磁阀(16)、第一水泵(9)、第二水泵(10)、第三水泵(11)、电机(18)、抽水泵电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液循环系统,其特征在于,所述滤水箱(17)顶端设有圆孔,第一电磁阀(3)上连接的连管固定安装在圆孔处。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液循环系统,其特征在于,所述活塞(21)与滤水箱(17)内腔紧密贴合。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液循环系统,其特征在于,所述第五电磁阀(16)安装于半透膜(22)与活塞(21)之间。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗液循环系统,其特征在于,所述清洗箱(1)底端设有出水孔,出水管(2)安装在出水孔处,出水孔处设有防水塞。

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