[实用新型]曲面曝光装置

说明书

本实用新型提供了一种曲面曝光装置，包括支架、控制机构、载物机构和设于所述支架上的光学投影机构，所述载物机构具有载物台以及驱动件，所述光学投影机构沿第一方向向所述载物台出射光，所述驱动件驱动所述载物台以垂直于所述第一方向的第一轴线翻转；所述控制机构连接并控制所述驱动件，其包括用于获取待曝光区域的表面形状信息的获取单元，以及路径控制单元，所述路径控制单元用于根据所述表面形状信息控制所述驱动件驱动所述载物台绕所述第一轴线翻转，使所述载物台最多只有部分位于所述光的出射路径上。这样，不需要制作治具，可节省大量的时间和成本，同时精准控制曝光区域，提高产品合格率。

技术领域

本实用新型涉及曝光设备领域，尤其涉及一种曲面曝光装置。

背景技术

现有的曝光设备在对曲面产品进行曝光时，通过治具覆盖在曲面物品上，对不需要曝光的区域进行遮挡，光源照射时，曲面物品被治具遮挡的区域曝不到光，而未被治具遮挡区域曝到光，藉此实现对曲面物品的曝光。但是现有的曝光设备需要根据待曝光区域的图案制作治具，因此，每一种产品都需要制作新的治具，需要耗费大量的时间和成本，还容易出现治具与曲面物品固定不良的情况，使治具在曝光过程中移位而导致曝光区域出现偏差，成品率低。

发明内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种曲面曝光装置，以解决需要根据待曝光区域的图案制作治具的问题。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供了一种曲面曝光装置，包括支架、控制机构和载物机构，所述载物机构具有载物台以及驱动件，所述曲面曝光装置还包括设于所述支架上的光学投影机构，所述光学投影机构沿第一方向向所述载物台出射光，所述驱动件驱动所述载物台以垂直于所述第一方向的第一轴线翻转；

所述控制机构连接并控制所述驱动件，其包括：

获取单元，用于获取待曝光区域的表面形状信息；

路径控制单元，用于根据所述表面形状信息控制所述驱动件驱动所述载物台绕所述第一轴线翻转，使所述载物台最多只有部分位于所述光的出射路径上。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述驱动件驱动所述载物台绕平行于所述第一方向的第二轴线360°旋转。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述驱动件驱动所述载物台沿X轴、Y轴和Z轴中的至少其一运动，使所述载物台相对所述光学投影机构平移。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述控制机构包括控制所述载物台沿X轴运动的X轴运动控制件、控制所述载物台沿Y轴运动的Y轴运动控制件、控制所述载物台沿Z轴运动的Z轴运动控制件、控制所述载物台绕所述第一轴线翻转的第一轴线翻转控制件、以及控制所述载物台绕所述第二轴线旋转的第二轴线旋转控制件。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述载物台包括依序连接的基座、载臂和载具，所述基座在所述X轴运动控制件、所述Y轴运动控制件与所述Z轴运动控制件的控制下，分别对应地沿X轴、Y轴与Z轴往复运动，所述载臂设于所述基座的侧壁上，所述载具设于所述载臂远离所述基座的一端，所述载具在所述第一轴线翻转控制件的控制下绕所述第一轴线翻转，所述载具的端部具有凸台，所述凸台在所述第二轴线旋转控制件的控制下绕所述第二轴线旋转。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述控制机构连接并控制所述光学投影机构，所述光学投影机构发出平行光。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述光学投影机构包括光源、匀光器、数字微镜阵列、投射透镜和吸收平面，所述光源出射紫外光，所述紫外光经所述匀光器匀光后照射于所述数字微镜阵列上，所述数字微镜阵列具有多个数字微镜单元，所述控制机构根据所述表面形状信息控制所述数字微镜单元打开或关闭，打开的所述数字微镜控制单元将所述紫外光反射至所述投射透镜后，投射至所述载物台上形成光斑，关闭的所述数字微镜控制单元将所述紫外光反射至所述吸收平面，并被所述吸收平面吸收。