[实用新型]用于真空镀膜的公自转式镀膜设备

说明书

用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，炉体内设有镀膜炉腔，镀膜炉腔的内部设置有公转盘转动机构和自转齿轮机构，内壁一侧连接有靶材，本实用新型的公转盘转动机构通过采用行星齿轮机构驱动挂架托盘实现AR固定架组件公转，而自转齿轮机构通过曲柄摇杆机构使齿条与自转齿轮相啮合，实现自转下轴旋转带动挂具180度翻身进行反面镀膜，并通过自转定位器使挂具达到准确翻身的目的；由于曲柄摇杆机构由旋转缸控制，能够使其选择性均匀地镀膜，实现在同一炉批次内自动翻面，避免开门翻身再抽真空升温需要消耗的时间和电能，有效节省时间和电能，并提高了双面镀膜效率，有效保障了双面镀膜的均匀性和一致性。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，更具体地说，尤其涉及一种用于真空镀膜的公自转式镀膜设备。

背景技术

传统的镀膜机转架都是简单的公转，只要启动转架的传动装置，转架在镀膜机内部就会不停的旋转，无法进行自转反面镀膜。

当产品需要两面镀膜的时候，镀好一面后需要停机开门，翻身重新关门抽真空升温再开镀，而开门翻身再抽真空升温要消耗时间和电能，为了节省时间和电能，通过改进，使其能够不开门自动翻身，从而节省了开门抽真空和升温的时间和电能。

而现有公、自转的转架，在镀膜过程中公转和自转都在不停的转动，不能有选择性均匀地镀膜，而只有公转的转架，又不能实现在同一炉批次内自动翻面，若要同时镀两面，须在转架的内侧增加镀膜源，设备购买成本增加，且难以保证两面的一致性。

实用新型内容

本实用新型针对上述缺点对现有技术进行改进，提供一种用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，技术方案如下：

用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，包括有炉体，该炉体内设有镀膜炉腔，所述镀膜炉腔的内部设置有公转盘转动机构和自转齿轮机构，内壁一侧连接有靶材，该公转盘转动机构连接于炉体的内侧底部，其包括有固定连接炉体的底盘，所述底盘的上方均匀排列连接有第一支撑柱若干组，并通过第一支撑柱连接有不动大齿盘，该不动大齿盘的外周均匀围绕啮合有小齿轮若干组，并形成行星齿轮机构，所述小齿轮的底部中心均通过延伸穿设于公转盘，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘，该公转盘的底部固定连接有传动齿轮，所述传动齿轮的下方可转动连接底盘，上方通过均匀排列的第二支撑柱连接挂架托盘，该挂架托盘的顶端面围绕通过公转支撑杆连接有公转上盘，所述公转上盘与挂架托盘之间可拆卸连接有AR固定架组件若干组，该AR固定架组件依次围绕设置于挂架托盘的边沿；

所述自转齿轮机构设置于炉体的内侧底部与底盘之间，其包括有旋转缸，该旋转缸固定嵌设于炉体的外侧底部，其旋转轴穿过炉体并设置于镀膜炉腔的内部，所述旋转缸的旋转轴连接有曲柄摇杆机构，该曲柄摇杆机构的另一端连接有导向滑块，所述导向滑块的下方连接有导向轨，该导向轨固定连接于炉体的内侧底部，所述导向滑块的上方固定连接有齿条，该齿条与自转齿轮相啮合，所述自转齿轮套设于AR固定架组件的底端，且该AR固定架组件于自转齿轮的上方均固定穿设有自转定位器。

所述炉体的内侧顶端对应公转上盘的中心延伸设置有上支撑座，并通过其活动连接公转上盘。

进一步，所述上支撑座的下方连接有离子源除尘装置，该离子源除尘装置的外周可转动连接有挡板轨道，并通过挡板轨道承托离子源除尘装置，所述挡板轨道的上端边沿固定连接炉体的内侧顶端。

进一步，所述离子源除尘装置包括有等离子除尘基座，该等离子除尘基座的外周通过挡板轨道使其限位设置于上支撑座的下方，所述等离子除尘基座的下方外周围绕连接公转上盘，底端连接有离子源发散杆若干组，该离子源发散杆的另一端连接底盘。

进一步，所述等离子除尘基座的底端连接离子源发散杆有四组，其呈十字形状均匀分布设置。