[实用新型]用于真空镀膜的公自转式镀膜设备

权利要求书

1.用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，包括有炉体(1)，该炉体(1)内设有镀膜炉腔(18)，其特征在于：所述镀膜炉腔(18)的内部设置有公转盘转动机构(21)和自转齿轮机构(22)，内壁一侧连接有靶材(20)，该公转盘转动机构(21)连接于炉体(1)的内侧底部，其包括有固定连接炉体(1)的底盘(23)，所述底盘(23)的上方均匀排列连接有第一支撑柱(24)若干组，并通过第一支撑柱(24)连接有不动大齿盘(25)，该不动大齿盘(25)的外周均匀围绕啮合有小齿轮(26)若干组，并形成行星齿轮机构，所述小齿轮(26)的底部中心均通过延伸穿设于公转盘(27)，顶端中心均延伸穿设于挂架托盘(28)，该公转盘(27)的底部固定连接有传动齿轮(29)，所述传动齿轮(29)的下方可转动连接底盘(23)，上方通过均匀排列的第二支撑柱(30)连接挂架托盘(28)，该挂架托盘(28)的顶端面围绕通过公转支撑杆(8)连接有公转上盘(5)，所述公转上盘(5)与挂架托盘(28)之间可拆卸连接有AR固定架组件(19)若干组，该AR固定架组件(19)依次围绕设置于挂架托盘(28)的边沿；

所述自转齿轮机构(22)设置于炉体(1)的内侧底部与底盘(23)之间，其包括有旋转缸(16)，该旋转缸(16)固定嵌设于炉体(1)的外侧底部，其旋转轴穿过炉体(1)并设置于镀膜炉腔(18)的内部，所述旋转缸(16)的旋转轴连接有曲柄摇杆机构(17)，该曲柄摇杆机构(17)的另一端连接有导向滑块(14)，所述导向滑块(14)的下方连接有导向轨(13)，该导向轨(13)固定连接于炉体(1)的内侧底部，所述导向滑块(14)的上方固定连接有齿条(12)，该齿条(12)与自转齿轮(11)相啮合，所述自转齿轮(11)套设于AR固定架组件(19)的底端，且该AR固定架组件(19)于自转齿轮(11)的上方均固定穿设有自转定位器(10)。

2.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述炉体(1)的内侧顶端对应公转上盘(5)的中心延伸设置有上支撑座(2)，并通过其活动连接公转上盘(5)。

3.根据权利要求2所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述上支撑座(2)的下方连接有离子源除尘装置(31)，该离子源除尘装置(31)的外周可转动连接有挡板轨道(3)，并通过挡板轨道(3)承托离子源除尘装置(31)，所述挡板轨道(3)的上端边沿固定连接炉体(1)的内侧顶端。

4.根据权利要求3所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述离子源除尘装置(31)包括有等离子除尘基座(4)，该等离子除尘基座(4)的外周通过挡板轨道(3)使其限位设置于上支撑座(2)的下方，所述等离子除尘基座(4)的下方外周围绕连接公转上盘(5)，底端连接有离子源发散杆(7)若干组，该离子源发散杆(7)的另一端连接底盘(23)。

5.根据权利要求4所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述等离子除尘基座(4)的底端连接离子源发散杆(7)有四组，其呈十字形状均匀分布设置。

6.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述AR固定架组件(19)包括有挂架(32)及连接于挂架(32)两端的自转下轴(9)和定位上轴(6)，该挂架(32)的上方通过定位上轴(6)活动穿设于公转上盘(5)，该挂架(32)的下方通过自转下轴(9)从上到下依次穿设有自转定位器(10)和与齿条(12)相啮合的自转齿轮(11)，使挂架(32)进行限位自转，所述挂架(32)与靶材(20)相对应设置。

7.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述传动齿轮(29)的下方通过呈圆环状结构的导轨(33)活动连接底盘(23)。

8.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述第二支撑柱(30)固定连接传动齿轮(29)，并通过该第二支撑柱(30)使挂架托盘(28)随传动齿轮(29)旋转。

9.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的公自转式镀膜设备，其特征在于：所述公转支撑杆(8)围绕挂架托盘(28)的顶端面设置有四组，其呈十字形状均匀分布设置，该公转支撑杆(8)均连接公转上盘(5)，并使公转上盘(5)随挂架托盘(28)旋转。