[实用新型]一种硅圆晶精加工抛光设备

说明书

本实用新型属于抛光设备技术领域，尤其为一种硅圆晶精加工抛光设备，包括抛光台，所述抛光台的边缘处焊接有支撑板，所述支撑板的上端通过螺栓固定有液压气缸，所述液压气缸的输出轴固定连接有抛光电机，所述抛光电机的输出轴固定连接有偏心抛光轮，所述抛光台的上表面焊接有套筒，所述套筒内部的下通过螺栓固定有风泵；圆晶打磨时放置在通过焊接固定在抛光台表面套筒的内部，使得圆晶与吸盘接触，风泵向外排气，使得吸盘的内部压强降低，增加了圆晶与吸盘接触的稳定性，同时吸盘内部压强降低后收缩，使得圆晶与防滑橡胶条接触，增加了圆晶安装在套筒内部的稳定性，避免圆晶在打磨时出现转动，提高了圆晶打磨的稳定性。

技术领域

本实用新型属于抛光设备技术领域，具体涉及一种硅圆晶精加工抛光设备。

背景技术

圆晶精加工抛光设备，是对于圆晶进行打磨抛光，用于提高圆晶表面的光滑程度，抛光是使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，传统的圆晶精加工抛光设备在使用时，圆晶固定方式复杂，同时稳定性差，圆晶在打磨时容易出现转动，同时圆晶抛光时产生的碎屑收集难度大的问题。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种硅圆晶精加工抛光设备，具有圆晶固定牢靠，同时抛光稳定，碎屑收集便捷的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅圆晶精加工抛光设备，包括抛光台，所述抛光台的边缘处焊接有支撑板，所述支撑板的上端通过螺栓固定有液压气缸，所述液压气缸的输出轴固定连接有抛光电机，所述抛光电机的输出轴固定连接有偏心抛光轮，所述抛光台的上表面焊接有套筒，所述套筒内部的下通过螺栓固定有风泵，所述套筒的上表面固定有吸盘，所述风泵的输出端与吸盘连接，所述套筒内部的上表面开设有排屑槽，所述套筒内部的上表面粘合有防滑橡胶条。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述套筒的下方安装有集灰罩，且所述集灰罩的上端安装在套筒的内部并通过磁铁固定。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述集灰罩的表面粘合有滤网，所述集灰罩的下端通过螺栓固定有风机，且所述风机位于滤网的正下方。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述集灰罩为双管状结构，所述集灰罩的内管套接在风泵的外部，所述集灰罩的外管位于排屑槽的正下方。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述排屑槽为扇形结构，所述防滑橡胶条为条形结构，且所述排屑槽和防滑橡胶条错位放置。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述吸盘为波纹管状结构，所述吸盘的上端一体成型的裙带处开设有防滑槽。

作为本实用新型的一种硅圆晶精加工抛光设备优选技术方案，所述偏心抛光轮为方形板状结构，且所述偏心抛光轮的四个拐角处均设置有倒角。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、圆晶打磨时放置在通过焊接固定在抛光台表面套筒的内部，使得圆晶与吸盘接触，风泵向外排气，使得吸盘的内部压强降低，增加了圆晶与吸盘接触的稳定性，同时吸盘内部压强降低后收缩，使得圆晶与防滑橡胶条接触，增加了圆晶安装在套筒内部的稳定性，避免圆晶在打磨时出现转动，提高了圆晶打磨的稳定性。

2、集灰罩的上端通过磁铁固定在套筒内部的上表面，集灰罩的下端通过螺栓固的风机，风机转动时使得套筒内部的空气进入到集灰罩的内部，便于空气携带碎屑进入集灰罩的内部，同时集灰罩的内部粘合的滤网，通过滤网对碎屑进行过滤隔离，避免圆晶打磨的碎屑向外排出，增加了圆晶打磨下的碎屑收集的便捷性。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。