[实用新型]一种化学气相沉积反应器有效
申请号: | 201921007733.2 | 申请日: | 2019-07-01 |
公开(公告)号: | CN210438836U | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 胡晓炜;蒋宗法;胡晓阳 | 申请(专利权)人: | 临沂大学 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/48 |
代理公司: | 北京彭丽芳知识产权代理有限公司 11407 | 代理人: | 彭丽芳 |
地址: | 276000 *** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 反应器 | ||
本实用新型属于无机非金属材料制备技术领域,尤其为一种化学气相沉积反应器,包括装置本体,装置本体的内部设置有滑移底板,滑移底板的上表面固定设置有反应槽,反应槽上设置有若干组夹持机构,装置本体的两端内壁均焊接固定有滑轨,滑轨与滑移底板之间设置有滚动轮,滑移底板通过滑轨与装置本体连接,滑移底板一侧的远离反应槽的一端设置有密封门,本实用新型能够通过两个夹持块的配合对装置本体内的衬底工件进行夹持悬空放置,便于工件底面能偶更好的附着薄膜,并能够在底面反应附着完成后通过拉动第二把手,使夹持块松开,便于工件的侧面继续反应,这样能够使工件的附膜效果均匀,没有死角。
技术领域
本实用新型属于无机非金属材料制备技术领域,具体涉及一种化学气相沉积反应器。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。
原有的化学气相沉积反应器在使用的过程中,衬底工件在摆放时,其放置底面不方便元素气体的沉积,造成薄膜生成效果不理想,在反应的过程中,由于需要加热,使得反应器内壁被同时加热,造成反应器内壁也附着上薄膜,为了解决以上问题,现提供一种化学气相沉积反应器。
实用新型内容
为解决现有技术中存在的上述问题,本实用新型提供了一种化学气相沉积反应器,具有便于多组反映物同时反应,反应接触表面更加全面,同时便于冷壁加热方法进行的特点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种化学气相沉积反应器,包括装置本体,装置本体的内部设置有滑移底板,滑移底板的上表面固定设置有反应槽,反应槽上设置有若干组夹持机构,装置本体的两端内壁均焊接固定有滑轨,滑轨与滑移底板之间设置有滚动轮,滑移底板通过滑轨与装置本体连接,滑移底板一侧的远离反应槽的一端设置有密封门,密封门的下方设置有第一把手,反应槽远离密封门的一侧上方固定焊接有固定块,固定块上滑动设置有红外线加热器,装置本体与密封门同侧的下方固定焊接有延伸板,延伸板的上表面固定设置有储气瓶,反应槽的内部环绕设置有送气钢管,送气钢管的一端贯穿反应槽和装置本体,通过送气软管与储气瓶连通。
作为本实用新型的一种优选技术方案,夹持机构包括夹持块、第一拉杆、压力弹簧和第二拉杆,两个夹持块组成一对卡合夹,两个夹持块靠近固定块槽壁的一侧分别通过第一拉杆和第二拉杆与固定块连接,第一拉杆和第二拉杆处于夹持块与固定块之间的部分套均接有压力弹簧,第一拉杆远离夹持块的一端贯穿密封门连接有第二把手。
作为本实用新型的一种优选技术方案,反应槽的底部对应夹持块的下方设置有载物平台。
作为本实用新型的一种优选技术方案,夹持块的两侧均设置有连接杆,两个连接杆一端均与第一拉杆连接,两个连接杆另一端均通过撬臂与第二拉杆连接,撬臂的中间位置处设置有支撑杆支撑杆的一端与撬臂转动连接,支撑杆的另一端与固定块固定连接。
作为本实用新型的一种优选技术方案,送气钢管上对应卡合夹的位置均设置有喷气嘴。
作为本实用新型的一种优选技术方案,密封门的外表面四角位置处均转动设置有卡合勾,装置本体上对应卡合勾的一侧均设置有卡合杆,密封门通过卡合勾与卡合杆与装置本体卡合固定。
作为本实用新型的一种优选技术方案,红外线加热器的一端连接有电线,红外线加热器通过电线连接有开关。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型能够通过两个夹持块的配合对装置本体内的衬底工件进行夹持悬空放置,便于工件底面能偶更好的附着薄膜,并能够在底面反应附着完成后通过拉动第二把手,使夹持块松开,便于工件的侧面继续反应,这样能够使工件的附膜效果均匀,没有死角。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于临沂大学,未经临沂大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921007733.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的