[实用新型]辅助阳极装置及具有其的真空磁控溅射设备

权利要求书

1.一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，其特征在于：所述腔室中设置有杆状的辅助阳极，所述辅助阳极的一端部连接在所述侧板上、另一端部处于所述靶材的下方。

2.根据权利要求1所述的辅助阳极装置，其特征在于：位于所述传动辊的传动方向两侧的所述侧板上都设置有所述辅助阳极。

3.根据权利要求2所述的辅助阳极装置，其特征在于：连接在同一个所述侧板上的所述辅助阳极沿直线等距排列。

4.根据权利要求2所述的辅助阳极装置，其特征在于：两个所述侧板上的所述辅助阳极数量相同。

5.根据权利要求4所述的辅助阳极装置，其特征在于：两个所述侧板上的所述辅助阳极位置一一对应，相对应的两个所述辅助阳极沿同一轴心线延伸。

6.根据权利要求1所述的辅助阳极装置，其特征在于：所述辅助阳极的延伸方向与所述传动辊的传动方向平行。

7.根据权利要求1所述的辅助阳极装置，其特征在于：位于所述靶材正下方的辅助阳极尺寸小于所述靶材在所述辅助阳极延伸方向尺寸的20%。

8.根据权利要求1所述的辅助阳极装置，其特征在于：所述辅助阳极的材料为铜。

9.一种真空磁控溅射设备，其特征在于：具有如权利要求1-8任一项所述的辅助阳极装置。