[实用新型]分配装置及蒸镀装置

权利要求书

1.一种分配装置(1)，其特征在于，包括进气管(11)以及分配管(12)，所述进气管(11)一端接通至蒸发源，所述进气管(11)另一端与所述分配管(12)连接；

所述分配管(12)包括与所述进气管(11)连接的进气端(121)，以及远离所述进气管(11)的封口端(122)；所述分配管(12)为螺旋结构，该螺旋结构的外径由进气端(121)向封口端(122)呈逐步扩大；所述分配管(12)上间隔地开设有多个出气孔(123)。

2.如权利要求1所述的分配装置，其特征在于，所述分配管(12)的螺旋结构外形呈倒圆锥体。

3.如权利要求2所述的分配装置，其特征在于，所述倒圆锥体的锥度为30度至60度。

4.如权利要求2所述的分配装置，其特征在于，所述倒圆锥体的锥度为45度。

5.如权利要求1所述的分配装置，其特征在于，所述分配管(12)的开孔率由进气端(121)向封口端(122)逐步增大，或者所述分配管(12)由进气端(121)向封口端(122)为一致的开孔率。

6.如权利要求1所述的分配装置，其特征在于，所述分配管(12)以及/或者进气管(11)的材质为金属材料。

7.如权利要求1所述的分配装置，其特征在于，所述分配管(12)以及/或者进气管(11)的材质为钛、钼、钛合金或钼合金。

8.如权利要求1至7任一项所述的分配装置，其特征在于，所述分配管(12)以及/或者进气管(11)材质为耐高温金属材料，表面成型有耐硒化材料涂层或耐硒化材料镀层。

9.如权利要求8所述的分配装置，其特征在于，所述耐硒化材料涂层或耐硒化材料镀层为钛、钼、钛合金或钼合金。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括蒸镀腔、设置于所述蒸镀腔内的一个或多个如权利要求1至9任一项所述的分配装置。