[实用新型]一种太阳能电池叠层钝化结构和叠层钝化接触太阳能电池

权利要求书

1.一种太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，包括：

硅片，包括用于收集入射光的正面和与该正面相对的背面；

钝化层；设于所述硅片正面；

N⁺型多晶硅层；设于所述钝化层上方，包括第一N⁺型多晶硅层与第二N⁺型多晶硅层；所述第一N⁺型多晶硅层通过原位掺杂、高温处理工艺形成；所述第二N⁺型多晶硅层通过扩散掺杂、高温处理工艺形成；

减反层；设于所述N⁺型多晶硅层上方；

其中，所述第一N⁺型多晶硅层靠近所述钝化层；所述第二N⁺型多晶硅层靠近所述减反层。

2.如权利要求1所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述钝化层为二氧化硅层，其厚度为2-5nm。

3.如权利要求2所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述第一N⁺型多晶硅层的厚度为50-70nm。

4.如权利要求3所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述第二N⁺型多晶硅层的厚度为50-200nm。

5.如权利要求4所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述钝化层的厚度为2-5nm；所述第一N⁺型多晶硅层的厚度为50-60nm；所述第二N⁺型多晶硅层的厚度为100-200nm。

6.如权利要求1所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述钝化层由氮化硅制成，其厚度为10-40nm。

7.如权利要求1所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述硅片为P型单晶硅片。

8.如权利要求1所述的太阳能电池叠层钝化结构，其特征在于，所述硅片背面还设有第一钝化膜层和第二钝化膜层；

所述第一钝化膜层为氧化铝材料；所述第二钝化膜层为氮化硅材料。

9.一种叠层钝化接触太阳能电池，其特征在于，其包括如权利要求1-8任一项所述的太阳能电池叠层钝化结构。