[实用新型]一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚有效
申请号: | 201920917652.X | 申请日: | 2019-06-18 |
公开(公告)号: | CN210560696U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 王文冲;王燕东;迟力峰 | 申请(专利权)人: | 苏州驰鸣纳米技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 宿迁市永泰睿博知识产权代理事务所(普通合伙) 32264 | 代理人: | 陈栋 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 任意 安装 角度 有机 真空 蒸发 坩埚 | ||
一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚,其特征在于,包括坩埚本体和密封带,所述坩埚本体包括顶盖和坩埚壁,所述坩埚本体为U形结构,所述坩埚本体顶部半圆形顶盖可拆卸,所述顶盖通过密封带与所述坩埚壁固定,所述顶盖与所述坩埚壁的连接面为波纹形连接面,且所述连接面表面经过磨砂处理以加强密封性,所述顶盖和坩埚壁靠近所述连接面一端都设有一环形限位密封槽,所述坩埚本体下端开口处设有向坩埚内部凹陷突起形成内部凹槽,所述密封带为环形橡胶密封带,所述密封带内环中间的两侧设置环形限位密封突起,所述环形限位密封突起位置及大小与所述顶盖和坩埚壁的环形限位密封槽匹配,保证密封性的同时便于拆装。
技术领域
本实用新型涉及一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚。
背景技术
真空蒸发沉积是一种常规的薄膜制备方式,具有材料利用效率高、简单、均匀性好、可控性高的特点,广泛地应用于无机半导体材料、金属、有机半导体材料及其他功能性材料的薄膜制作。一般来讲,真空蒸发沉积是将所蒸发的源材料放置在一个材料容器中,通过不同加热方式使得源材料汽化,从而产生源材料的原子、分子或者团簇束流,并在真空中无碰撞地沉积在衬底上,其生长速率可由源材料的温度决定。而产生原子、分子或者团簇束流的设备统称蒸发源,其包括材料容器、加热组件、温度测量组件、控温组件组成。
然而,无论是电子束蒸发源还是热阻蒸发源,其安装方向都有一定的限制:就是蒸发口朝上或者以一定的角度朝上。在朝下的情况下,其材料容器及其里边的蒸发材料会从容器中掉出来,从而无法进行蒸发使用。开口朝下的蒸发源将带来诸多便利,如样品无需反置、方便功能性集成和可实现原位实时监测等,所以因此亟需一种任意安装角度坩埚,同时也要方便清洗及加工。
实用新型内容
为解决现有技术中的问题,本实用新型提供以下技术方案:一种任意安装角度有机真空蒸发源坩埚,其特征在于,包括坩埚本体和密封带,所述坩埚本体包括顶盖和坩埚壁,所述坩埚本体为U形结构,所述坩埚本体顶部半圆形顶盖可拆卸,所述顶盖通过密封带与所述坩埚壁固定,所述顶盖与所述坩埚壁的连接面为波纹形连接面,且所述连接面表面经过磨砂处理以加强密封性,所述顶盖和坩埚壁靠近所述连接面一端都设有一环形限位密封槽,所述坩埚本体下端开口处设有向坩埚内部凹陷突起形成内部凹槽。
进一步地,所述环形限位密封槽与所述连接面平行。
进一步地,所述密封带为丁晴橡胶材料制作的环形橡胶密封带,所述密封带内环中间的两侧设置环形限位密封突起,所述环形限位密封突起位置及大小与所述顶盖和坩埚壁的环形限位密封槽匹配。
进一步地,所述坩埚本体材质为石英。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型通过所述坩埚本体下端开口处开设的向坩埚内部凹陷突起形成的内部凹槽,实现坩埚的倒装,同时采用分体式结构,方便装料、清洗及生产加工。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型连接面结构示意图;
图3为本实用新型密封带截面图;
附图标记说明:坩埚本体1、顶盖2、坩埚壁3、连接面4、环形限位密封突起5、环形限位密封槽6、密封带7。
具体实施方式
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