[实用新型]一种光阻去除机上可检测晶舟盒平整度的上料机构有效

专利信息
申请号: 201920899725.7 申请日: 2019-06-15
公开(公告)号: CN210223980U 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: 王浩明 申请(专利权)人: 苏州子山半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/673;H01L21/67
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 薛芳芳
地址: 215000 江苏省苏州市工*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 去除 机上可 检测 晶舟盒 平整 机构
【说明书】:

实用新型公开了一种光阻去除机上可检测晶舟盒平整度的上料机构,包括机台和嵌设在机台顶端的传感器,所述机台的顶端中部开设有传感器导向槽,所述传感器导向槽内固定有第一传感器,第一传感器一侧的机台上设置有沉槽和通孔,所述第一传感器的电极片通过螺钉固定在沉槽内,所述电极片连接一导线,该导线通过通孔从机台的底部穿出。本实用新型在传统的光阻去除机上增加一个感应器,该感应器与原本光阻去除机上感应器协同作用,通过直线槽内的感应器和外加的感应器确定一个水平面,并将其信号与原机台的传感器的信号并联,形成一个连锁监控;防止晶舟盒放歪却没有被发现的异常发生,提高判断准确度以及降低产品的报废率。

技术领域

本实用新型涉及一种上料机构,具体为一种光阻去除机上可检测晶舟盒平整度的上料机构。

背景技术

传统的光阻去除机上可检测晶舟盒是否安放的机构。工作原理如下,一颗传感器安装在一条直线的凹槽中,当晶舟盒放上,传感器被晶舟盒往下按压触发;晶舟盒取下时传感器复位不触发。

目前,由于机台只有一个晶舟盒传感器,且位于晶舟的中间位置。当晶舟盒因人为原因横跨在晶舟台前半端后者后半端,则容易造成传感器被按压而晶舟盒不在水平位置;机台只能通过传感器是否按压来判断有无安放晶舟盒,无法识别安晶舟盒放位置是否水平,如果晶舟盒位置异常则容易造成传送异常,产品报废。因此我们对此做出改进,提出一种光阻去除机上可检测晶舟盒平整度的上料机构。

实用新型内容

为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:

本实用新型一种光阻去除机上可检测晶舟盒平整度的上料机构,包括机台和嵌设在机台顶端的传感器,所述机台的顶端中部开设有传感器导向槽,所述传感器导向槽内固定有第一传感器,第一传感器一侧的机台上设置有沉槽和通孔,所述第一传感器的电极片通过螺钉固定在沉槽内,所述电极片连接一导线,该导线通过通孔从机台的底部穿出。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述机台的两侧分别设置有一大一小两个晶舟盒固定件,两个所述晶舟盒固定件均通过螺钉与机台的顶端固定连接。

其中一个所述晶舟盒固定件的一侧设置有第二传感器,所述第二传感器嵌设于机台内,且第二传感器的顶端与机台的顶端齐平。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述传感器导向槽为一中部开设有长条形凹槽的矩形铝块,且凹槽的中部开设有一通孔,所述第一传感器固定设置在通孔内。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述机台的中部开设有一定位孔,所述机台的底部设置有平台固定柱,所述平台固定柱的顶部设置有二阶圆台,且二阶圆台卡合在定位孔内,所述机台通过平台固定柱固定安装在光阻去除机的顶部,且机台的定位平面与光阻去除机的工作台面均为水平面。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述第一传感器和所述第二传感器为为开关传感器。

作为本实用新型的一种优选技术方案,两个所述晶舟盒固定件相互正对的一侧为两个相互平行的平面,其中一个晶舟盒固定件的拐角处设置有直倒角。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述第一传感器和所述第二传感器并联,并形成一个连锁监控。

作为本实用新型的一种优选技术方案,所述第一传感器和所述第二传感器并联,并形成一个连锁监控。

本实用新型的有益效果是:在传统的光阻去除机上增加一个感应器,该感应器与原本光阻去除机上感应器协同作用,通过直线槽内的感应器和外加的感应器确定一个水平面,并将其信号与原机台的传感器的信号并联,形成一个连锁监控;两个传感器中有一个未触发,则传感器信号不被触发,从而防止晶舟盒放歪却没有被发现的异常发生,提高判断准确度以及降低产品的报废率。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州子山半导体科技有限公司,未经苏州子山半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920899725.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top