[实用新型]一种PECVD工艺腔室支管路装置及其所在的气路系统

权利要求书

1.一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：包括容器本体(10)，所述容器本体(10)的上部设有密封盖(12)，所述密封盖(12)的上方开有进气口(121)，排气口(122)，所述容器本体(10)内盛放有液体(11)，所述进气口(121)连接进气管(20)，所述排气口(122)连接进气口(121)。

2.根据权利要求1所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述进气口(121)的一端与支管路(42)通过活动连接件(50)活动连接，所述进气口(121)的另一端设于所述液体(11)的液面下，排气管(30)的一端设于所述液体(11)的液面上方，所述排气管(30)的另一端置于PECVD工艺腔室内。

3.根据权利要求2所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述连接件(50)为快速接头。

4.根据权利要求2所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述进气管(20)设于所述液体(11)的液面上方与所述密封盖(12)之间还设有缓冲段(21)。

5.根据权利要求4所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述缓冲段(21)为“壶状”。

6.根据权利要求5所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述密封盖(12)的上方还设有加液口(123)。

7.根据权利要求2-6任一项所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述液体(11)为不易挥发且不与NH3和SiH4发生反应的液体石蜡。

8.根据权利要求7所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述排气管(30)采用直径为0.01-5cm的管路。

9.根据权利要求8所述的一种PECVD设备工艺腔室支管路装置，其特征在于：所述容器本体(10)为透明材质或者设有液位观察装置。

10.一种包含权利要求9所述PECVD设备工艺腔室支管装置的特气系统，其特征在于：还包括主进气管(40)，干管路(41)以及支管路(42)，所述PECVD设备工艺腔室支管路装置连接在每个所述支管路(42)上。