[实用新型]一种半导体元器件电浆清洗装置有效
| 申请号: | 201920814841.4 | 申请日: | 2019-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN210120116U | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
| 发明(设计)人: | 孙国标;凌永康;杜良辉 | 申请(专利权)人: | 江苏壹度科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 半导体 元器件 清洗 装置 | ||
1.一种半导体元器件电浆清洗装置,包括清洗篮(1),其特征在于:所述清洗篮(1)搭置在外搭板(2)上,所述外搭板(2)安装在装置外壳(3)上,所述清洗篮(1)包括外框(11)、安装在所述外框(11)底部的底板(12)以及安装在所述外框(11)左右两侧的提杆(13),所述外框(11)的前后两侧端面上均开设有一对滑动槽(111),所述滑动槽(111)的外侧安装有挡块(112),所述外框(11)侧端面的底部位置处安装有若干个滚轮(113),所述提杆(13)的两端均设有滑动杆(131),所述滑动杆(131)与所述滑动槽(111)滑动连接,所述滑动杆(131)末端的侧表面处设有凸柱(132)。
2.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述外框(11)为空心的矩形框状结构,所述底板(12)呈网板状结构,所述底板(12)与所述外框(11)紧密焊接。
3.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述滑动槽(111)的末端呈封闭状,所述滑动槽(111)的首端与所述外框(11)的侧端面相连通,所述挡块(112)通过螺栓安装在所述外框(11)上并将所述滑动槽(111)的首端遮盖。
4.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述外框(11)每侧所述滚轮(113)的数量至少为两个,所述滚轮(113)的轮轴与所述外框(11)紧密焊接,所述外框(11)的前端面处通过螺栓安装有把手(114)。
5.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述滑动杆(131)与所述提杆(13)紧密焊接,所述滑动杆(131)的末端从所述滑动槽(111)的首端伸入到所述滑动槽(111)内,所述滑动杆(131)的宽度与所述滑动槽(111)的槽宽相同。
6.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述外搭板(2)的顶面上通过螺栓安装有一对挡条(21),所述外搭板(2)的前端安装有挡边(22)。
7.根据权利要求1所述的半导体元器件电浆清洗装置,其特征在于:所述外搭板(2)的末端安装在所述装置外壳(3)的表面上,所述外搭板(2)的底端安装有支撑杆(23),所述支撑杆(23)的底端安装在所述装置外壳(3)的表面上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





