[实用新型]一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置

说明书

本实用新型涉及连续溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，包括冷阱盘管，冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，冷阱室通过冷阱室高真空阀门与工艺室连通，深冷泵依据冷阱室高真空阀门的启闭切换冷阱盘管除霜或制冷，冷阱室与冷阱室真空泵相连。本实用新型的优点是：避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材；除霜过程和工艺室中的搬送过程相互独立；缩短工艺室到达本底真空所需的时间；减少工艺室中水气的分压，提高光学薄膜质量；深冷泵、冷阱盘管除霜不影响工艺室真空，能连续抽除工艺室中的水气；工艺室到达本底真空的时间减少50%到75%。

技术领域

本实用新型涉及连续溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置。

背景技术

随着工业自动化的快速发展，连续溅射镀膜设备得到广泛应用。目前市场上连续溅射镀膜设备对水蒸气的抽速不显著，且理论上在低于10^-1Pa的压力下水蒸气含量在残余气体负载中超过97%，随着工艺进行基板表面及真空腔室表面吸附的水蒸气慢慢解吸出来，严重影响设备生产光学薄膜的质量。以常规的深冷泵连接冷阱盘管制冷抽除水气的结构，无法应用于连续溅射镀膜设备。

发明内容

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，通过合理控制冷阱室高真空阀门的启闭，切换冷阱盘管进行除霜作业或制冷作业，当冷阱盘管进行除霜作业时不影响工艺室真空，当冷阱盘管进行制冷作业，利用低温冷凝效应，迅速捕集工艺室内的残余气体，从而大大缩短工艺室到达本底真空所需的时间。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，其特征在于：所述抽除水气装置包括冷阱盘管，所述冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，所述冷阱室通过冷阱室高真空阀门与所述工艺室连通，所述深冷泵依据所述冷阱室高真空阀门的启闭切换所述冷阱盘管除霜或制冷，所述冷阱室与冷阱室真空泵相连。

所述冷阱室通过冷阱室真空阀门与所述冷阱室真空泵相连。

所述冷阱室真空阀门包括冷阱室低真空阀门及冷阱室高真空辅助阀门，所述冷阱室真空泵包括冷阱室低真空泵组及冷阱室高真空泵，所述冷阱室低真空阀门与所述冷阱室低真空泵组连接，所述冷阱室高真空辅助阀门与所述冷阱室高真空泵连接。

所述工艺室通过工艺室真空阀门与工艺室真空泵相连。

所述工艺室真空泵包括工艺室低真空泵组及工艺室高真空泵，所述工艺室真空阀门包括工艺室低真空阀门及工艺室高真空辅助阀门，所述工艺室低真空阀门与所述工艺室低真空泵组连接，所述工艺室高真空辅助阀门与所述工艺室高真空泵连接。

所述工艺室通过工艺室高真空阀门与搬送室相通。

所述搬送室通过搬送室低真空阀门与搬送室低真空泵组相连。

本实用新型的优点是：结构简单，增设冷阱室后可以避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材，可以提升膜层品质；除霜过程和工艺室中的搬送过程相互独立，并行进行，有利于流程优化；缩短工艺室到达本底真空所需的时间；减少工艺室中水气的分压，提高光学薄膜质量；深冷泵、冷阱盘管除霜不影响工艺室真空，能连续抽除工艺室中的水气；较无该装置连续溅射镀膜设备，到达本底真空时间减少50%到75%。

附图说明

图1为本实用新型的系统框图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：