[实用新型]一种包装阻隔膜

说明书

本实用新型提供一种包装阻隔膜，包括基膜，于基膜上设置阻隔层，阻隔层由下而上依次为金属氧化物层、金属氧化物‑氧化硅渐变层、氧化硅层；或阻隔层由下而上依次为金属氮氧化物层、金属氮氧化物‑氮氧化硅渐变层、氮氧化硅层。本实用新型的包装阻隔膜的阻隔性能优异，有效减少水气侵入。

技术领域

本实用新型涉及保护膜技术领域，尤其涉及一种包装阻隔膜。

背景技术

专利号为201580002853.1的中国专利揭示了一种波长转换片材保护膜，该保护膜的O/Si比例控制在1.7～2.0之间，可得到优秀的水蒸气阻隔效果以及良好的光学透射率。但是，由于O/Si比例处于不饱和状态，该状态下O₂含量非常的敏感，些微之O₂波动就会影响镀膜速率，造成厚度的差异；尤其是大幅宽连续性的生产上，易造成宽度、长度均匀性上的偏差，从而导致良品率低。

实用新型内容

本实用新型提供一种生产过程稳定，提高良品率，且阻隔性能优异，有效减少水气侵入的包装阻隔膜。

本实用新型采用的技术方案为：一种包装阻隔膜，其包括：基膜，于基膜上设置一阻隔层，所述阻隔层由下而上依次为金属氧化物层、金属氧化物-氧化硅渐变层、氧化硅层；或所述阻隔层由下而上依次为金属氮氧化物层、金属氮氧化物-氮氧化硅渐变层、氮氧化硅层。

进一步地，所述金属氧化物层为钛的氧化物层、铝的氧化物层、锌的氧化物层、或锡的氧化物层，所述金属氮氧化物层为钛的氮氧化物层、铝的氮氧化物层、锌的氮氧化物层、或锡的氮氧化物层。。

进一步地，所述基膜厚度介于6um～50um之间。

进一步地，所述基膜厚度介于6um～38um之间。

进一步地，所述基膜厚度介于6um～25um之间。

进一步地，所述阻隔层厚度介于10nm～60nm之间。

进一步地，所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度之和介于所述阻隔层总厚度的10％～90％之间。

进一步地，所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度之和介于所述阻隔层总厚度的10％～50％之间。

进一步地，所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度介于所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层厚度之和的10％～90％之间。

进一步地，所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度介于所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层厚度之和的10％～50％之间。

相较于现有技术，本实用新型的包装阻隔膜通过将阻隔层设置为由下而上依次为金属氧化物层、金属氧化物-氧化硅渐变层、氧化硅层；或由下而上依次为金属氮氧化物层、金属氮氧化物-氮氧化硅渐变层、氮氧化硅层；从而使得包装阻隔膜的阻隔性能优异，有效减少水气侵入。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但不应构成对本实用新型的限制。在附图中，

图1：本实用新型包装阻隔膜的生产系统；

图2：本实用新型包装阻隔膜一实施例的示意图；

图3：本实用新型包装阻隔膜另一实施例的示意图；

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。