[实用新型]一种包装阻隔膜有效

专利信息
申请号: 201920796401.0 申请日: 2019-05-29
公开(公告)号: CN210529033U 公开(公告)日: 2020-05-15
发明(设计)人: 胡文玮 申请(专利权)人: 汕头万顺新材集团股份有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/30;B65D65/40
代理公司: 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) 44401 代理人: 彭志坚;张海英
地址: 515078 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 包装 阻隔
【权利要求书】:

1.一种包装阻隔膜,其特征在于,包括:基膜,于基膜上设置一阻隔层,所述阻隔层由下而上依次为金属氧化物层、金属氧化物-氧化硅渐变层、氧化硅层;或所述阻隔层由下而上依次为金属氮氧化物层、金属氮氧化物-氮氧化硅渐变层、氮氧化硅层。

2.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述金属氧化物层为钛的氧化物层、铝的氧化物层、锌的氧化物层、或锡的氧化物层,所述金属氮氧化物层为钛的氮氧化物层、铝的氮氧化物层、锌的氮氧化物层、或锡的氮氧化物层。

3.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述基膜厚度介于6um~50um之间。

4.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述基膜厚度介于6um~38um之间。

5.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述基膜厚度介于6um~25um之间。

6.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述阻隔层厚度介于10nm~60nm之间。

7.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度之和介于所述阻隔层总厚度的10%~90%之间.

8.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度之和介于所述阻隔层总厚度的10%~50%之间。

9.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度介于所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层厚度之和的10%~90%之间。

10.如权利要求1所述的包装阻隔膜,其特征在于:所述金属氧化物-氧化硅渐变层的厚度介于所述金属氧化物层及所述金属氧化物-氧化硅渐变层厚度之和的10%~50%之间。

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