[实用新型]一种引线框架的铜带的垂直曝光系统

说明书

一种引线框架的铜带的垂直曝光系统，属于半导体生产技术领域。其特征在于：在暗箱（9）的两侧分别设置有进料轮（2）和收料轮（15），在暗箱（9）与进料轮（2）和收料轮（15）之间分别设置自由进料缓冲机构和收料缓冲机构，铜带（1）自进料轮（2）输出后经过进料缓冲机构后自暗箱（9）正上方的入口竖直进入暗箱（9）曝光；在暗箱（9）的正下方设置有动力轮组（11），铜带（1）曝光完成自暗箱（9）正下方的出口输出后经过动力轮组（11）以及收料缓冲机构后在收料轮（15）表面缠绕。在本引线框架的铜带的垂直曝光系统中，铜带竖直进入暗箱内进行曝光，避免了水平曝光时微尘降落到铜带表面形成沙孔弊端，提高了产品品质。

技术领域

一种引线框架的铜带的垂直曝光系统，属于半导体生产技术领域。

背景技术

引线框架作为集成电路的芯片载体，是一种借助于键合材料（金丝、铝丝、铜丝）实现芯片内部电路引出端与外引线的电气连接，形成电气回路的关键结构件，它起到了和外部导线连接的桥梁作用。引线框架的原材料是铜带，在引线框架的生产过程中，首先需要对铜带进行压膜，使感光膜贴合在铜带表面，然后使用曝光机对铜带进行曝光操作，其原理是通过曝光机，利用光照成形原理将模具上的图形转移到感光干膜上。传统的曝光机在对铜带的进行曝光时一般为水平曝光方式，即铜带在传送装置的引导下水平经过曝光机完成曝光。

虽然一般情况下引线框架的生产车间为无尘环境，但是机器工作时产生的微尘不可避免的会落到铜带的表面，一旦有微尘降落到铜带表面，在经过曝光之后会在铜带表面形成沙孔，严重影响产品的品质。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种铜带竖直进入暗箱内进行曝光，避免了水平曝光时微尘降落到铜带表面形成沙孔弊端，提高了产品品质的引线框架的铜带的垂直曝光系统。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该引线框架的铜带的垂直曝光系统，其特征在于：包括暗箱，在暗箱的两侧分别设置有进料轮和收料轮，在暗箱与进料轮之间设置有进料缓冲机构，在暗箱与收料轮之间设置有收料缓冲机构，待曝光的铜带自进料轮输出后经过进料缓冲机构后自暗箱正上方的入口竖直进入暗箱曝光；

在暗箱的正下方设置有动力轮组，铜带曝光完成自暗箱正下方的出口输出后经过动力轮组以及收料缓冲机构后在收料轮表面缠绕。

优选的，所述的进料缓冲机构包括进料张力气缸，进料张力气缸的输出端竖直向下，在进料张力气缸的正下方设置有进料缓冲轮，所述铜带自进料缓冲轮下方绕过；

进料张力气缸的输出轴与进料缓冲轮的轮轴固定连接，在进料缓冲轮的前后两侧设置有一组进料缓冲轮导轨，进料缓冲轮沿进料缓冲轮导轨上下移动。

优选的，在所述的进料缓冲轮导轨上自上而下依次设置有与进料缓冲轮配合触发的进料上限位置感应器、进料工作位置感应器以及进料下限位置感应器，其中进料上限位置感应器位于进料缓冲轮的上部，进料工作位置感应器和进料下限位置感应器位于进料缓冲轮的下部。

优选的，所述的收料缓冲机构包括收料张力气缸，收料张力气缸的输出端竖直向下，在收料张力气缸的正下方设置有收料缓冲轮，所述铜带自收料缓冲轮下方绕过；

收料张力气缸的输出轴与收料缓冲轮的轮轴固定连接，在收料缓冲轮的前后两侧设置有一组收料缓冲轮导轨，收料缓冲轮沿收料缓冲轮导轨上下移动。

优选的，在所述收料缓冲轮导轨上自上而下依次设置有与收料缓冲轮配合触发的收料上限位置感应器、收料工作位置感应器以及收料下限位置感应器，其中收料上限位置感应器位于收料缓冲轮的上部，收料工作位置感应器和收料下限位置感应器位于收料缓冲轮的下部。

优选的，在所述的暗箱内设置有一组曝光光源，两个曝光光源的发光侧相对设置，在两个曝光光源的发光侧分别竖直设置有一个底片，两个底片间隔设置，铜带自两个底片之间穿过。