[实用新型]一种引线框架的铜带的垂直曝光系统有效

专利信息
申请号: 201920771772.3 申请日: 2019-05-27
公开(公告)号: CN209911755U 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 朱春阳;刘松源;黄伟;李昌文;徐治;陈迅;马伟凯;刘琪 申请(专利权)人: 山东新恒汇电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/67
代理公司: 37223 淄博佳和专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 孙爱华
地址: 255088 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 铜带 暗箱 进料轮 收料轮 曝光 收料缓冲机构 动力轮组 缓冲机构 曝光系统 引线框架 竖直 垂直 半导体生产技术 输出 表面缠绕 产品品质 铜带表面 微尘 降落 自由 出口
【权利要求书】:

1.一种引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:包括暗箱(9),在暗箱(9)的两侧分别设置有进料轮(2)和收料轮(15),在暗箱(9)与进料轮(2)之间设置有进料缓冲机构,在暗箱(9)与收料轮(15)之间设置有收料缓冲机构,待曝光的铜带(1)自进料轮(2)输出后经过进料缓冲机构后自暗箱(9)正上方的入口竖直进入暗箱(9)曝光;

在暗箱(9)的正下方设置有动力轮组(11),铜带(1)曝光完成自暗箱(9)正下方的出口输出后经过动力轮组(11)以及收料缓冲机构后在收料轮(15)表面缠绕。

2.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:所述的进料缓冲机构包括进料张力气缸(4),进料张力气缸(4)的输出端竖直向下,在进料张力气缸(4)的正下方设置有进料缓冲轮(6),所述铜带(1)自进料缓冲轮(6)下方绕过;

进料张力气缸(4)的输出轴与进料缓冲轮(6)的轮轴固定连接,在进料缓冲轮(6)的前后两侧设置有一组进料缓冲轮导轨(21),进料缓冲轮(6)沿进料缓冲轮导轨(21)上下移动。

3.根据权利要求2所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述的进料缓冲轮导轨(21)上自上而下依次设置有与进料缓冲轮(6)配合触发的进料上限位置感应器(5)、进料工作位置感应器(22)以及进料下限位置感应器(23),其中进料上限位置感应器(5)位于进料缓冲轮(6)的上部,进料工作位置感应器(22)和进料下限位置感应器(23)位于进料缓冲轮(6)的下部。

4.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:所述的收料缓冲机构包括收料张力气缸(13),收料张力气缸(13)的输出端竖直向下,在收料张力气缸(13)的正下方设置有收料缓冲轮(20),所述铜带(1)自收料缓冲轮(20)下方绕过;

收料张力气缸(13)的输出轴与收料缓冲轮(20)的轮轴固定连接,在收料缓冲轮(20)的前后两侧设置有一组收料缓冲轮导轨(19),收料缓冲轮(20)沿收料缓冲轮导轨(19)上下移动。

5.根据权利要求4所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述收料缓冲轮导轨(19)上自上而下依次设置有与收料缓冲轮(20)配合触发的收料上限位置感应器(14)、收料工作位置感应器(17)以及收料下限位置感应器(18),其中收料上限位置感应器(14)位于收料缓冲轮(20)的上部,收料工作位置感应器(17)和收料下限位置感应器(18)位于收料缓冲轮(20)的下部。

6.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述的暗箱(9)内设置有一组曝光光源(10),两个曝光光源(10)的发光侧相对设置,在两个曝光光源(10)的发光侧分别竖直设置有一个底片(8),两个底片(8)间隔设置,铜带(1)自两个底片(8)之间穿过。

7.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述进料缓冲机构与进料轮(2)之间还设置有进料夹轮轮组(3),铜带(1)从进料夹轮轮组(3)之间穿过。

8.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述收料缓冲机构与收料轮(15)之间还设置有收料夹轮轮组(16),铜带(1)从收料夹轮轮组(16)之间穿过。

9.根据权利要求1所述的引线框架的铜带的垂直曝光系统,其特征在于:在所述暗箱(9)上方入口的正上方设置有换向轮(7),铜带(1)自进料缓冲机构输出后绕过换向轮(7)进入暗箱(9)。

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