[实用新型]一种用于磁铁密封的结构有效

专利信息
申请号: 201920728679.4 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN210112363U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 赵良超;李洪;何小中;杨国君;庞健;马超凡 申请(专利权)人: 四川玖谊源粒子科技有限公司
主分类号: H05H13/00 分类号: H05H13/00;H05H7/00
代理公司: 成都乾睿知识产权代理有限公司 51273 代理人: 窦杰平
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 磁铁 密封 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种用于磁铁密封的结构,属于回旋加速器技术领域,包括从上到下依次设置的上盖板、上磁极、真空盒、下磁极和下盖板;所述真空盒具有分别与上磁极和下磁极接触的密封端面;真空盒的密封端面上设有双层密封槽,每层密封槽内均设有密封圈。本实用新型具有良好的密封性,能够为回旋加速器提供良好的真空环境。

技术领域

本实用新型涉及回旋加速器技术领域,具体涉及一种为了给回旋加速器提供真空环境的用于磁铁密封的结构。

背景技术

回旋加速器,是利用磁场和电场共同使带电粒子作回旋运动,在运动中经高频电场反复加速的装置,是高能物理中的重要仪器,常用于医学领域。

医用回旋加速器的工作原理是在电场和磁场的共同作用下将微观粒子加速到一定能量,而这一加速过程需要在真空环境下完成,真空环境能够减少了束流在加速过程中的损失,提高束流传输效率,为此,获得优质的真空环境对于加速器的性能提升至关重要。

现有的回旋加速器通常采用真空盒来提供真空环境,但因为需要磁场和电场,所以真空盒必须要和产生磁场和电场的结构连接。而现在真空盒与其他结构的连接上,仅仅通过一层密封圈来进行密封,密封效果不好。

实用新型内容

本实用新型意在提供一种用于磁铁密封的结构,意在解决现有磁铁密封结构密封效果不好的问题。

为解决以上问题,提供如下方案:

本方案中的用于磁铁密封的结构,包括从上到下依次设置的上盖板、上磁极、真空盒、下磁极和下盖板;所述真空盒具有分别与上磁极和下磁极接触的密封端面;真空盒的密封端面上设有双层密封槽,每层密封槽内均设有密封圈。

本方案的优点在于:

通过双层密封槽的设置,使真空盒与上磁极和下磁极两个端面的连接,都能通过密封槽及其内的密封圈进行密封,保证真空盒与上磁极和下磁极一起形成的加速腔拥有良好的密封性。

此外,从上往下依次设置上盖板、上磁极、真空盒、下磁极和下盖板的结构,能够利用重力,通过上盖板和下盖板将上磁极、真空盒和下磁极三者紧密的压在一起,进一步增加加速腔的密封性。同时,上盖板和下盖板,还能对两者之间的各部分结构起到保护作用。

本方案通过双层密封槽及其相关结构设置,有效解决了现在密封效果不好的问题,密封性好,真空可达1×10-4Pa。且本方案结构简单,便于安装。

进一步,所述真空盒为筒状结构,所述真空盒的上端为真空盒上密封端面,所述真空盒的下端为真空盒下密封端面,双层密封槽分别设置在真空盒上密封端面和真空盒下密封端面上。

将双层密封槽都设置在真空盒上,更加方便加工和安装。

进一步,所述真空盒上密封端面和真空盒下密封端面之间为真空盒的筒壁,所述筒壁上连接有对称设置的内靶连接法兰和离子源连接法兰。

通过内靶连接法兰,使真空盒内的加速腔内能够安装用来进行束流检测的内靶。通过离子源连接法兰,使离子源能够横插进真空盒形成的加速腔内。离子源横向插入,束流轴向聚焦性较好,可提高束流品质。

进一步,所述内靶连接法兰与内靶之间以及离子源与离子源连接法兰之间分别设置有密封垫。

内靶连接法兰以及离子源连接法兰均与真空盒一体成型,通过密封垫使内靶和离子源分别与真空盒筒壁之间进行密封。

进一步,真空盒的筒壁上设有对称设置的两个束流引出端,所述离子源连接法兰位于两个束流引出端的中间位置。

将离子源法兰设置在两个束流引出端之间,能够最大限度地利用真空盒形成的加速腔空间。

进一步,束流引出端上设置有密封环。

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