[实用新型]一种用于磁铁密封的结构有效

专利信息
申请号: 201920728679.4 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN210112363U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 赵良超;李洪;何小中;杨国君;庞健;马超凡 申请(专利权)人: 四川玖谊源粒子科技有限公司
主分类号: H05H13/00 分类号: H05H13/00;H05H7/00
代理公司: 成都乾睿知识产权代理有限公司 51273 代理人: 窦杰平
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 磁铁 密封 结构
【权利要求书】:

1.一种用于磁铁密封的结构,其特征在于:包括从上到下依次设置的上盖板、上磁极、真空盒、下磁极和下盖板;所述真空盒具有分别与上磁极和下磁极接触的密封端面;真空盒的密封端面上设有双层密封槽,每层密封槽内均设有密封圈。

2.根据权利要求1所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述真空盒为筒状结构,所述真空盒的上端为真空盒上密封端面,所述真空盒的下端为真空盒下密封端面,双层密封槽分别设置在真空盒上密封端面和真空盒下密封端面上。

3.根据权利要求1所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述真空盒上密封端面和真空盒下密封端面之间为真空盒的筒壁,所述筒壁上连接有对称设置的内靶连接法兰和离子源连接法兰。

4.根据权利要求3所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述内靶连接法兰与内靶之间以及离子源与离子源连接法兰之间分别设置有密封垫。

5.根据权利要求4所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:真空盒的筒壁上设有对称设置的两个束流引出端,所述离子源连接法兰位于两个束流引出端的中间位置。

6.根据权利要求5所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:束流引出端上设置有密封环。

7.根据权利要求3所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:真空盒的筒壁上设有观察窗,所述观察窗靠近离子源连接法兰。

8.根据权利要求1所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述上磁极和所述下磁极靠近真空盒的一面上均设置有向内突出的山区以及向外突出的谷区;同一个磁极上,所有山区和谷区交叉设置;同一个磁极上,所有山区和谷区一起形成一个圆截面。

9.根据权利要求8所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述山区和谷区均为扇形结构。

10.根据权利要求9所述的用于磁铁密封的结构,其特征在于:所述山区的角度范围为53°-63°,所述谷区的角度范围为25°-35°。

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