[实用新型]一种可调节的镀膜用滤片装置有效

专利信息
申请号: 201920713558.2 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN210085567U 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 何祥云;吴强强;林汉伦;黄海 申请(专利权)人: 伯恩光学(惠州)有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/54
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地址: 516221 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 调节 镀膜 用滤片 装置
【说明书】:

本实用新型公开了一种可调节的镀膜用滤片装置,用于在溅射靶材和待镀膜基材之间对溅射镀膜过程中产生的离子进行过滤,所述滤片装置包括设置成中空结构的滤片本体,两侧从上至下对应排列嵌接有滤板,所述滤板在靠近滤片边框的一侧设置有控制组件和滑动槽,所述控制组件推拉所述滤板的移动实现滤板伸缩长度的调整,达到渐变色彩的镀膜效果。本实用新型应用广泛,可操作性强,解决了现有技术镀膜颜色单一、色差较大、渐变效果差等缺点,可根据需要随时调整滤板改变镀膜层厚度,方便实用,减少了镀膜过程中的资源浪费,并且镀膜效果附着力强、耐磨度高,渐变颜色过渡非常自然,用户视觉体验极佳。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域,具体涉及一种可调节的镀膜用滤片装置。

背景技术

平板电脑、手机玻璃盖板等电子产品的颜色装饰工艺可以采用喷涂、丝网印刷和PVD(Physical Vapor Deposition即物理气相沉积镀膜)等方式实现。但传统的喷涂、丝印工艺效果颜色不够绚丽,过渡区域色彩衔接不自然,且对玻璃产品外形结构有一定的局限性。

而PVD是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。溅射镀膜和真空镀膜是最主流的两种PVD镀膜方式。其工作原理就是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、可镀材料广泛等优点。

带渐变色外观的产品是当前市场上最受消费者欢迎的主流产品之一。为满足消费者这一需求,现有技术通常是溅射镀膜过程中,在溅射靶材和待镀膜基材之间设置固定的挡板来决定镀膜的区域,通过调整挡板与基材之间的距离来实现渐变镀膜效果,其往往具有镀膜颜色单一不自然、色差较大、渐变效果差等特点,造成消费者视觉体验效果不佳。常常要多次镀膜,工艺较为复杂,而且针对不同尺寸及外形的待镀膜基材需要更换不同的专用挡板,成本较高,费时费力。

发明内容

为了克服现有技术的缺陷,本实用新型提供了一种操作简单,成本较低,实用性强的可调节的镀膜用滤片装置,根据实际需要,通过对不同的待镀膜基材和不同渐变色彩需求调整对应参数,能够较好地达到渐变色镀膜效果,具有效率高,颜色自然均匀等优点,满足了市场对渐变色产品的需求。

为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:一种可调节的镀膜用滤片装置,用于在溅射靶材和待镀膜基材之间对溅射镀膜过程中产生的气体离子进行过滤,其特征在于,所述滤片装置包括滤片本体,所述滤片本体设置成中空结构,两侧从上至下对应排列嵌接有滤板,所述滤板在靠近滤片边框的一侧设置有控制组件和滑动槽,所述控制组件推拉所述滤板的移动实现滤板伸缩长度的调整。

进一步地,所述的一种可调节的镀膜用滤片装置,其特征在于,所述滑动槽上设置有刻度参数。

进一步地,所述的一种可调节的镀膜用滤片装置,其特征在于,所述滤板在所述滤片装置上对称设置,且数量为多个。

进一步地,所述的一种可调节的镀膜用滤片装置,其特征在于,所述控制组件为推拉结构。

进一步地,所述的一种可调节的镀膜用滤片装置,其特征在于,所述滤片本体的材质包括金属,形状为圆形、矩形、三角形或者扇形。

进一步地,所述的一种可调节的镀膜用滤片装置,其特征在于,所述待镀膜基材包括玻璃、金属、陶瓷和塑料等材料。。

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