[实用新型]一种适用于半导体制程废气处理设备有效

专利信息
申请号: 201920705640.0 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN210473565U 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 席涛涛;王继飞;杨春水;陈彦岗;杨春涛;章文军;张坤;闫萧;蔡传涛;王磊 申请(专利权)人: 安徽京仪自动化装备技术有限公司
主分类号: B01D53/78 分类号: B01D53/78;B01D53/58;B01D53/46;B01D53/68;B01D47/06
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 郑直
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 半导体 废气 处理 设备
【说明书】:

本实用型新公开一种适用于半导体制程废气处理设备,涉及废气处理领域,包括前水洗设备、热反应设备、后水洗设备和水循环设备,增加前水洗设备,能够提前处理可溶于水的气体以及去除粉尘物,并采用6路直管进气即降低进气量波动影响又防止堵塞,制程气体是从反应腔体底部进入反应腔,能够提前预热气体,增加气体中水汽含量,使反应更充分,部分水淋采用循环水,进水使用一路新水,并且使用一个水泵进行水设备循环和排污,降低成本,减少耗能,节约水资源;在传输管道上进行气体冷却,防止洗涤器过热;本实用型新优化了传统废气处理设备,更利于半导体制程废气的处理,且降低成本,减少耗能,提升处理效果,并增大制程气体的处理量。

技术领域

本实用新型涉及废气处理领域,具体涉及一种适用于半导体制程废气处理设备。

背景技术

半导体制造工艺中需要使用多种特殊的气体、大量的酸、碱等化学品以及有机溶剂和挥发性液体,工艺气体有硅烷、磷化氢、三氢化砷、氨、三氯化硼、氯、二氯磺酞、四氯化硅、氢化硫、三氯甲苯、碘化硫;酸性液体有HF、H2SO4、HCL、HNO3;碱性液体有NH4OH、NaOH;溶剂有丙酮、二甲苯、IPA、PGMEA、NMP等。

这些气体和化学品在半导体制造工艺中,如果不通过集中收集并且处理,将造成严重的问题,将会影响人体的身体健康,造成环境污染。

目前市场上的尾气处理设备往往存在以下问题:进气口和进气管道数量少,在制程气体的气量波动较大时,容易造成处理不充分;进气管道采用弯管,容易被粉尘结晶堵塞;反应腔体外面使用隔热锡纸包裹,长期处在高温状态下会发出刺鼻的气味;采用单个加热棒对反应腔进行加热,容错率低;水路采用新鲜水和冷却水,管路不仅多而且密集,控制回路也相应复杂,同时需要配合多组水泵,成本高,耗能大,且用水量大;酸排一次洗涤处对尾气处理使用鲍尔环,采用物理吸附法,把固体颗粒进行吸附,由于一次洗涤的洗涤塔温度比较高,容易造成鲍尔环融化。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种移动通信基站,增加前水洗设备,能够提前处理可溶于水的气体以及去除粉尘物,并采用6路直管进气即降低进气量波动影响又防止堵塞,反应腔体增大并且制程气体是从反应腔体底部进入反应腔,能够提前预热气体,增加气体中水汽含量,使反应更充分,部分水淋采用循环水,进水使用一路新水,并且使用一个水泵进行水设备循环和排污,降低成本,减少耗能,节约水资源;在传输管道上进行气体冷却,防止洗涤器过热;本实用型新优化了传统废气处理设备,更利于半导体制程废气的处理,且降低成本,减少耗能,提升处理效果,并增大制程气体的处理量。

一种适用于半导体制程废气处理设备,包括前水洗设备、热反应设备、后水洗设备和水循环设备,所述水循环设备包括水箱、新水进水管道、污水出水管道、水泵和阻隔板,所述水泵安装于水箱内,所述新水进水管道直接与水箱连通,所述污水出水管道与水泵连接;

所述前水洗设备包括废气进气管、进气水淋喷头和集气箱,所述废气进气管通过集气箱与水箱连通,所述进气水淋喷头设在废气进气管内;

所述热反应设备包括热反应箱、加热棒、过程气体烟囱和传输管道,所述热反应箱内为反应腔和回流腔,所述过程气体烟囱与热反应箱固定连接,且过程气体烟囱下端与水箱连通,上端开口并位于反应腔内,所述加热棒固定连接在热反应箱上,所述传输管道固定连接在热反应箱的侧下方,并与反应腔连通,且传输管道上还设有冷却水淋喷头,所述热反应箱的底部还固定连接有加热箱进水管道,所述加热箱进水管道的两端分别与水泵和回流腔连通;

所述后水洗设备包括下洗涤器、上洗涤器、下水淋喷头和上水淋喷头,所述下洗涤器的下端与水箱连通,上端与上洗涤器连通,且下洗涤器还通过传输管道与热反应箱连通,所述下水淋喷头设在下洗涤器内,所述上水淋喷头设在上洗涤器内。

优选的,所述废气进气管共设有六根,且每两根废气进气管共同连接在一个集气箱上。

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