[实用新型]一种适用于半导体制程废气处理设备

权利要求书

1.一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于，包括前水洗设备（1）、热反应设备（2）、后水洗设备（3）和水循环设备（4），所述水循环设备（4）包括水箱（40）、新水进水管道（41）、污水出水管道（42）、水泵（43）和阻隔板（45），所述水泵（43）安装于水箱（40）内，所述新水进水管道（41）直接与水箱（40）连通，所述污水出水管道（42）与水泵（43）连接；

所述前水洗设备（1）包括废气进气管（10）、进气水淋喷头（12）和集气箱（13），所述废气进气管（10）通过集气箱（13）与水箱（40）连通，所述进气水淋喷头（12）设在废气进气管（10）内；

所述热反应设备（2）包括热反应箱（20）、加热棒（21）、过程气体烟囱（22）和传输管道（23），所述热反应箱（20）内为反应腔（25）和回流腔（26），所述过程气体烟囱（22）与热反应箱（20）固定连接，且过程气体烟囱（22）下端与水箱（40）连通，上端开口并位于反应腔（25）内，所述加热棒（21）固定连接在热反应箱（20）上，所述传输管道（23）固定连接在热反应箱（20）的侧下方，并与反应腔（25）连通，且传输管道（23）上还设有冷却水淋喷头（24），所述热反应箱（20）的底部还固定连接有加热箱进水管道（44），所述加热箱进水管道（44）的两端分别与水泵（43）和回流腔（26）连通；

所述后水洗设备（3）包括下洗涤器（30）、上洗涤器（31）、下水淋喷头（32）和上水淋喷头（33），所述下洗涤器（30）的下端与水箱（40）连通，上端与上洗涤器（31）连通，且下洗涤器（30）还通过传输管道（23）与热反应箱（20）连通，所述下水淋喷头（32）设在下洗涤器（30）内，所述上水淋喷头（33）设在上洗涤器（31）内。

2.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于：所述废气进气管（10）共设有六根，且每两根废气进气管（10）共同连接在一个集气箱（13）上。

3.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于：所述加热棒（21）设有六根，且加热棒（21）上固定连接有套筒（210），且套筒（210）与加热棒（21）之间填充有保温棉（211）。

4.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于：所述进气水淋喷头（12）和冷却水淋喷头（24）与水泵（43）连通，所述下水淋喷头（32）和上水淋喷头（33）与新水进水管道（41）连通。

5.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于：所述阻隔板（45）的上端与水箱（40）固定连接，阻隔板（45）的下端悬空，与水箱（40）底板之间形成水流通道（450）。

6.根据权利要求1所述的一种适用于半导体制程废气处理设备，其特征在于：所述过程气体烟囱（22）上设有回流孔（220），所述回流孔（220）位于回流腔（26）内。