[实用新型]一种应用于半导体废气处理设备的等离子火炬

说明书

本实用新型公开了一种应用于半导体废气处理设备的等离子火炬，涉及工业废气处理技术领域，包括给装置本体进行水冷的冷却系统一和卡槽板，所述卡槽板上安装阳极衬套，所述阳极衬套下端套接下拉板，所述下拉板螺钉连接于卡槽板上，所述阳极衬套内套接具有腔室一的阳极铜,本实用新型结构简单，为现有技术中解决半导体废气处理提供了新途径，处理废气安全可靠，范围广，本实用新型具有良好的冷却降温效果，阴极与阳极均有水冷却，能够将阴极与阳极产生的高温迅速的被冷却水带走，从而使得处理废气更安全可靠，环形磁柱可以有效的控制电弧，保护阳极铜不受电弧侵蚀，使用寿命长。

技术领域

本实用新型涉及工业废气处理技术领域，具体涉及一种应用于半导体废气处理设备的等离子火炬。

背景技术

半导体废气多为有毒有害气体，对人体和环境危害严重，随着半导体行业的日益繁荣，产能激增，半导体厂商由于企业内部设施的限制对废气处理设备有更多各类需求，对处理效率有更高要求。

现有应用于半导体废气处理设备上的方案主要有三种，且各有优势，但也具有如下缺陷：1电热丝加热式，将电热丝加热控制在600-1000℃之间，但是温度低、废气处理效果不理想、分解不完全、升温慢等；2天然气燃烧式，需要天然气、氧气等供应系统等，有一定的危险性，例如易爆炸；3活性炭吸附式，适用范围受限，吸附能力有限，容易堵塞，需定期更换，因此，关于半导体废气处理技术还需要不断研究，增加解决半导体废气处理的新途径，使得处理废气安全可靠，范围广，废气处理效率高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种应用于半导体废气处理设备的等离子火炬，增加现有技术中解决半导体废气处理的新途径，使得处理废气安全可靠，范围广效率高。

一种应用于半导体废气处理设备的等离子火炬，包括给装置本体进行水冷的冷却系统一和卡槽板，所述卡槽板上安装阳极衬套，所述阳极衬套下端套接下拉板，所述下拉板螺钉连接于卡槽板上，所述阳极衬套内套接具有腔室一的阳极铜，所述阳极铜外套接环形磁柱，所述阳极铜顶端设有数个沿其轴线呈环形排列的气孔，所述阳极铜底端套接于卡槽板内且其上端设有钨棒，所述钨棒上设有带有腔室二的阴极铜，所述阴极铜外部套接阴极衬套，所述阴极衬套外安装压板，所述压板螺钉连接于阳极衬套上，所述压板上设有惰性气体连接口，所述惰性气体连接口与阳极铜顶端的气孔相通，所述冷却系统一包括安装于阴极铜上端的三通，所述三通的两个通孔分别连接车间的循环水源的进出口，第三个通孔连通腔室二。

优选的，所述冷却系统一还包括两个安装于压板上的水源连接口一，两个水源连接口一的外端口分别连接车间的循环水源的进出口，两个水源连接口一的内端口连接至阳极衬套与阳极铜形成的腔室三内，所述阳极铜外还设有加工冷却槽。

优选的，所述卡槽板内套接陶瓷环，所述陶瓷环套接于阳极铜外，所述卡槽板上还设有对其进行水冷的冷却系统二。

优选的，所述冷却系统二包括两个设于卡槽板上的水源连接口二，所述卡槽板下方设有水冷板，所述水冷板套接于陶瓷环外，所述水冷板上方与卡槽板之间形成腔室四，所述腔室四连通水源连接口二。

优选的，所述下拉板上设有压缩空气旋转入口，所述压缩空气旋转入口一端连接车间压缩空气设备，另一端吹向阳极铜下表面。

本实用新型的优点在于：本实用新型结构简单，为现有技术中解决半导体废气处理提供了新途径，处理废气安全可靠，范围广效率高，本实用新型具有良好的冷却降温效果，阴极与阳极均有水冷却，能够将阴极与阳极产生的高温迅速的被冷却水带走，从而使得处理废气更安全可靠，环形磁柱可以有效的控制电弧，保护阳极铜不受电弧侵蚀，使用寿命长。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2、3分别为本实用新型沿A-A、B-B方向的剖面图。

图4为本实用新型中阳极铜上气孔的位置示意图。