[实用新型]双加热装置

说明书

本实用新型涉及一种烤胶用加热装置，尤其是一种双加热装置，属于MEMS的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案，所述双加热装置，包括加热支撑壳体、设置于所述加热支撑壳体上的下加热盘以及与所述加热支撑壳体铰接的防护罩，在所述防护罩内设置能吸附硅片的上加热盘以及能对上加热盘上硅片加热的上加热器；在加热支撑壳体内设置下加热器，防护罩压盖在加热支撑壳体上时，上加热盘能与下加热盘正对应，通过上加热器、下加热器能对上加热盘与下加热盘之间的硅片的两面同时进行加热。本实用新型结构紧凑，采用双层加热的形式，能有效提高烤胶的均匀性，便于实现后期刻蚀中获得更好地线宽，使用方便，安全可靠。

技术领域

本实用新型涉及一种烤胶用加热装置，尤其是一种双加热装置，属于MEMS的技术领域。

背景技术

在MEMS（Micro-Electro-Mechanical System）领域，烤胶是光刻工艺的基本步骤之一，即在一定的温度下，使光刻胶膜里面的溶剂缓慢地、充分地逸出来，使光刻胶膜干燥，烤胶提高了光刻胶的粘附性，提升了硅片上光刻胶的均匀性，在刻蚀中能得更好的线宽控制。目前，在进行烤胶时，烤胶的均匀性难以保证，无法有效在后期的刻蚀工艺中获得更好地线宽。

发明内容

本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种双加热装置，其结构紧凑，采用双层加热的形式，能有效提高烤胶的均匀性，便于实现后期刻蚀中获得更好地线宽，使用方便，安全可靠。

按照本实用新型提供的技术方案，所述双加热装置，包括加热支撑壳体、设置于所述加热支撑壳体上的下加热盘以及与所述加热支撑壳体铰接的防护罩，在所述防护罩内设置能吸附硅片的上加热盘以及能对上加热盘上硅片加热的上加热器；在加热支撑壳体内设置下加热器，防护罩压盖在加热支撑壳体上时，上加热盘能与下加热盘正对应，通过上加热器、下加热器能对上加热盘与下加热盘之间的硅片的两面同时进行加热。

在防护罩内还设置上隔热板，上加热器、上加热盘固定安装于上隔热板上，上隔热板通过上隔热板支撑柱安装于防护罩内，上加热器位于上加热盘与上隔热板之间。

在所述防护罩上设置若干罩体散热孔，在上加热盘上设置真空吸附孔。

所述防护罩通过铰链铰接在加热支撑壳体上，在防护罩的背面还设置用于调节铰链打开角度的调节块。

在所述加热支撑壳体内设置用于与下加热器适配连接的下隔热板，在加热支撑壳体内设置用于支撑下隔热板的隔热板支撑柱。

在所述加热支撑壳体的底端设置若干均匀分布的可调底座，在加热支撑壳体上还设置触摸屏。

在防护罩上还设置防护罩拉手。

本实用新型的优点：在加热支撑壳体上设置下加热盘，在防护罩内设置上加热盘，待烤胶的硅片能吸附在上加热盘上，防护罩压盖在加热支撑壳体上后，上加热盘与下加热盘正对应，从而通过上加热器、下加热器能实现对硅片的双面加热，能有效提高烤胶的均匀性，便于实现后期刻蚀中获得更好地线宽，使用方便，安全可靠。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型防护罩处于打开状态的示意图。

图3为本实用新型防护罩压盖在加热支撑壳体上的示意图。

图4为本实用新型的剖视图。

附图标记说明：1-壳体上板、2-下加热盘、3-壳主体、4-可调底座、5-触摸屏、6-铰链、7-防护罩、8-上加热器、9-上加热盘、10-上隔热板、11-上隔热板支撑柱、12-真空吸附孔、13-硅片、14-防护罩拉手、15-调节块、16-隔热板支撑柱、17-下隔热板、18-下加热器以及19-罩体散热孔。

具体实施方式