[实用新型]一种硅片清洗设备

权利要求书

1.一种硅片清洗设备，包括机架(1)和物料盘(22)，所述机架(1)上设置有冲洗腔(2)和下料腔(4)，所述冲洗腔(2)的顶部安装有清洁架(3)，所述清洁架(3)上倾斜安装有喷淋头(32)，所述喷淋头(32)外接进水管(31)，所述清洁架(3)的底部架设有清洁网板(21)，其特征在于，所述清洁网板(21)通过活动轴(25)安装在机架(1)上，所述物料盘(22)内设置有若干道放置槽(26)，所述放置槽(26)的底板为镂空网结构，所述物料盘(22)架设在清洁网板(21)上，所述下料腔(4)位于有冲洗腔(2)的正下方，所述下料腔(4)与冲洗腔(2)之间通过清洁网板(21)相分隔，所述下料腔(4)侧边竖向架设有传动螺杆(41)，所述传动螺杆(41)上套设有传动套(42)，所述清洁网板(21)的侧边安装有衔接座(44)，所述传动套(42)与衔接座(44)之间通过拉杆(43)相连接，所述机架(1)的底部架设有传动电机(47)，所述传动螺杆(41)安装在传动电机(47)的驱动端。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述冲洗腔(2)内设置有挡板(23)，所述挡板(23)架设于物料盘(22)后侧。

3.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述物料盘(22)的底部四边区域设置有卡槽(24)，所述物料盘(22)通过卡槽(24)盖合在清洁网板(21)上。

4.根据权利要求1所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述下料腔(4)侧板面上设置有限位轨(46)，所述传动套(42)上连接安装有限位块(45)，所述限位块(45)卡合在限位轨(46)内。

5.根据权利要求1-4任一所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述机架(1)的底板上设置有滑轨(11)，所述滑轨(11)上安装有擦拭架(5)，所述擦拭架(5)的前端安装有前置架(51)，所述前置架(51)上安装有伸缩杆(52)，所述伸缩杆(52)的固定端通过活动柱(53)安装在前置架(51)上，所述伸缩杆(52)的活动端安装有固定架(54)，所述固定架(54)上通过辊轴安装有滚动擦(55)。

6.根据权利要求5所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述擦拭架(5)的后侧安装有驱动电机(59)，所述驱动电机(59)的驱动端安装有传动盘(61)，所述传动盘(61)的外盘面边缘安装有锁合栓(62)，所述擦拭架(5)中间位置架设有竖向导轨(56)，所述竖向导轨(56)的轨道槽内安装有滑块(57)，所述滑块(57)通过第一传动杆(58)与固定架(54)相连接，所述滑块(57)通过第二传动杆(63)与锁合栓(62)相连接。