[实用新型]一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜有效

专利信息
申请号: 201920549553.0 申请日: 2019-04-22
公开(公告)号: CN210065624U 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 施克炜;陈晓东;杨明 申请(专利权)人: 太湖金张科技股份有限公司
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/24;C09J7/30;C09J4/02
代理公司: 11486 北京博维知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 王艺
地址: 246400 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 胶层 上表面 半固化 光引发剂 本实用新型 防静电层 保护膜 基材层 下表面 凹凸不平结构 半固化状态 表面保护膜 光照射条件 微结构表面 凹凸不平 加工器件 器件加工 完全固化 胶质 化学性 机械性 无残胶 小颗粒 层离 压敏 生产工艺 柔软 背面 加工 剥离 污染
【权利要求书】:

1.一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,包括基材层(101),基材层的上表面涂布一层防静电层(102),防静电层的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层A(103),胶层A的上表面贴合一层含有光引发剂的UV半固化胶层B(104),胶层B的上表面贴合一层离型膜(105);所述UV半固化胶层A包括上表面、下表面,在上表面和下表面之间分布有小颗粒。

2.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述UV半固化胶层A上表面和下表面之间均匀地分布有小颗粒,分布密度为每立方厘米1×103~105个。

3.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述UV半固化胶层A上表面和下表面之间随机地分布有小颗粒。

4.如权利要求1所述的一种用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述小颗粒由气相二氧化硅、氧化铝、玻璃微珠、PMMA、PS或硅氧烷树脂组成,小颗粒体积为1nm3~1×106nm3

5.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述小颗粒形状为球状、纤维状、柱状或块状。

6.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述防静电层为含有导电高分子材料的涂料层,厚度为1~200μm。

7.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,UV半固化胶层A的厚度为20~5000μm,UV半固化胶层B的厚度为1~5000μm。

8.如权利要求1所述的用于表面具有凹凸不平结构器件加工的表面保护膜,其特征在于,所述基材层厚度为12~250μm,所述离型膜的厚度为10~500μm。

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