[实用新型]一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备

权利要求书

1.一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，包括扩散炉（1）、与扩散炉（1）连接的源气罐（2）、真空泵（3）以及尾气处理装置（4），其特征在于：所述扩散炉（1）包括顶部设置炉门（11）的立式炉体（10）和设置于立式炉体（10）的加热器（12）、石英舟（13）以及用于运输石英舟（13）的升降组件；所述升降组件包括电机（21）和设置于立式炉体（10）中心、与所述电机（21）的输出轴连接、且设有外螺纹的驱动轴（22），所述石英舟（13）包括环形的底座（31）以及设置于底座（31）的筒架（32），所述底座（31）内环设有内螺纹并与所述驱动轴（22）螺纹连接、外环通过凸起体滑动设置于所述立式炉体（10）内壁轴向开设的滑槽；所述筒架（32）的内环和外环均设有用于承载硅片的承载座（33）；所述筒架（32）、底座（31）以及承载座（33）均空心、并相互连通，所述底座（31）设有可供所述源气罐（2）的输气管插入的进气口，所述承载座（33）底面设有出气孔。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述加热器（12）包括若干加热块，所述加热块的设置密度由立式炉体（10）的顶部到底部递减。

3.根据权利要求1所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述筒架（32）的顶部设有与所述底座（31）形状大小一致的稳固座（34），所述稳固座（34）的顶部设有把手。

4.根据权利要求3所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述稳固座（34）内部空心并与所述筒架（32）连通，所述稳固座（34）靠近所述筒架（32）的一面设有若干循环气孔。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述立式炉体（10）的侧壳和底壳均包括外壳体和内壳体，且外壳体和内壳体之间形成冷却水腔（14），所述冷却水腔（14）的上部设有出水口、下部设有进水口。

6.根据权利要求5所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述驱动轴（22）内部空心，所述驱动轴（22）位于冷却水腔（14）的部分设有若干输水孔。

7.根据权利要求5所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述炉门（11）包括外封闭门和内封闭门，且所述外封闭门和内封闭门之间空心；所述内封闭门设有与所述冷却水腔（14）连通的输水口。

8.根据权利要求7所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述立式炉体（10）侧壳的顶部凸出形成插入部（10a），所述插入部（10a）设有外螺纹，所述输水口侧壁设有与所述外螺纹配合连接的内螺纹。

9.根据权利要求8所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述插入部（10a）截面为圆台形。

10.根据权利要求1所述的一种用于制备薄层多晶硅电池片的低压扩散设备，其特征在于：所述输气管用于插入所述底座（31）进气口的端部为锥形并设有外螺纹，所述进气口侧壁设有与所述外螺纹配合的内螺纹。